东京毅力科创株式会社三浦拓也获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113031407B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011464044.1，技术领域涉及：G03F7/30；该发明授权液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质是由三浦拓也;高桥彰吾;田中公一朗设计研发完成，并于2020-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供一种液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质。液处理装置的一例包括：构成为能够保持基片的基片保持部；构成为能够向基片的表面供给处理液的处理液供给部；构成为能够向基片的表面供给气体的气体供给部；控制部。气体供给部包括扩散喷嘴，该扩散喷嘴形成有相对于基片的表面以各自不同的角度延伸的多个喷出口。控制部在基片的表面被供给有处理液的状态下，执行控制气体供给部的处理，以使得从扩散喷嘴对基片的表面中的至少包含中央部的区域喷射气体。根据本发明，能够更均匀地控制基片的面内温度分布。
本发明授权液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质在权利要求书中公布了：1.一种液处理装置，其特征在于，包括： 构成为能够保持基片的基片保持部； 构成为能够向所述基片的表面供给处理液的处理液供给部； 构成为能够向所述基片的表面供给气体的气体供给部；和 控制部， 所述气体供给部包括扩散喷嘴，所述扩散喷嘴形成有相对于所述基片的表面以各自不同的角度延伸的多个喷出口， 所述控制部在所述基片的表面被供给有所述处理液的状态下，执行控制所述气体供给部的处理，以使得在从铅垂方向观察时所述扩散喷嘴位于从所述基片的旋转中心偏心的状态下，从所述扩散喷嘴对所述基片的表面中的至少包含中央部的区域持续地喷射所述气体。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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