ASML荷兰有限公司J·加西亚圣克拉拉获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于在光刻过程中改善衬底的均匀性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114641731B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080077443.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于在光刻过程中改善衬底的均匀性的方法是由J·加西亚圣克拉拉;J·M·芬德斯;H·F·赫夫纳格尔斯;G·里斯朋斯设计研发完成，并于2020-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于在光刻过程中改善衬底的均匀性的方法在说明书摘要公布了：提供了一种处理衬底的方法，所述衬底具有形成在其上的金属氧化物抗蚀剂层，所述方法包括以下步骤：将所述衬底曝光于图案化辐射以形成包括位于所述金属氧化物抗蚀剂层中的多个特征的图案；将所述衬底的包括至少一个所述特征的一部分曝光于调节辐射，由此引起所述金属氧化物抗蚀剂层在所述部分中收缩。也提供使计算机设备执行上述方法的计算机程序、和其上存储有这种计算机程序的计算机程序产品，正如具有适于执行上述方法或运行上述程序的处理器的设备，诸如光刻设备。所述方法和设备可以导致临界尺寸均匀性的改善。
本发明授权用于在光刻过程中改善衬底的均匀性的方法在权利要求书中公布了：1.一种处理衬底的方法，所述衬底具有形成在其上的金属氧化物抗蚀剂层，所述方法包括以下步骤： 将所述衬底曝光于图案化辐射以形成包括位于所述金属氧化物抗蚀剂层中的多个特征的图案； 将所述衬底的包括至少一个所述特征的一部分曝光于调节辐射，由此引起所述金属氧化物抗蚀剂层在所述部分中收缩。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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