应用材料公司特金德·辛格获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利图案化金属氧化物光刻胶的剂量减量获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114223050B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080055591.6，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权图案化金属氧化物光刻胶的剂量减量是由特金德·辛格;阎俐凡;阿卜希吉特·B·马尔利克;丹尼尔·李·迪尔;和勇·黄;乔斯林甘·罗摩林甘设计研发完成，并于2020-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案化金属氧化物光刻胶的剂量减量在说明书摘要公布了：本公开内容的多个实施方式一般涉及用作极紫外EUV平板印刷术中的掩模的多层堆叠物和用于形成多层堆叠物的方法。在一个实施方式中，方法包括以下步骤：在膜堆叠物之上形成碳层，通过物理气相沉积PVD工艺在碳层上形成富金属氧化物层，在富金属氧化物层上形成金属氧化物光刻胶层，和图案化金属氧化物光刻胶层。金属氧化物光刻胶层不同于富金属氧化物层，且通过与PVD工艺不同的工艺形成金属氧化物光刻胶层。通过PVD工艺形成的富金属氧化物层改善了金属氧化物光刻胶层的黏附力，并在EUV平板印刷期间增加次级电子，从而导致EUV剂量能量减少。
本发明授权图案化金属氧化物光刻胶的剂量减量在权利要求书中公布了：1.一种用于形成多层堆叠物的方法，包括以下步骤： 在膜堆叠物上形成第一层，所述第一层包含含碳层； 通过物理气相沉积工艺在所述第一层上形成第二层，所述第二层包含富金属氧化物层，其中所述富金属氧化物层的金属对氧化物比率为化学计量的金属对氧化物比率的1.5倍或更高；和 在所述第二层上形成金属氧化物光刻胶层，所述金属氧化物光刻胶层包含与所述第二层不同的材料， 其中所述第二层改善所述金属氧化物光刻胶层对所述第二层的黏合性， 其中所述金属氧化物光刻胶层包括分子金属氧化物簇核，每个核具有多个辐射敏感配体。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号