美蓓亚三美株式会社浅川寿昭获国家专利权
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龙图腾网获悉美蓓亚三美株式会社申请的专利应变片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116608762B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310346190.1，技术领域涉及：G01B7/16；该发明授权应变片是由浅川寿昭;相泽祐汰;户田慎也;高田真太郎;丹羽真一设计研发完成，并于2018-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本应变片在说明书摘要公布了：本应变片包括：基材，具有可挠性；功能层，在所述基材的一个表面上，由金属、合金、或金属的化合物形成；以及电阻体，在所述功能层的一个表面上，由包含铬和镍中的至少一者的材料形成。
本发明授权应变片在权利要求书中公布了：1.一种应变片，包括： 基材，具有可挠性； 功能层，由金属、合金、或金属的化合物直接形成在所述基材的一个表面上；以及 电阻体，由Cr、CrN、Cr2N进行相混合而成并且扩散有所述功能层中包含的Cr以外的元素的Cr混合相膜直接形成在所述功能层的一个表面上，其中， 所述电阻体以α-Cr作为主成分， 所述功能层对所述Cr混合相膜的生长面进行限制并促进所述Cr混合相膜的晶体生长， 应变率为10以上。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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