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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120411101B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510912193.6，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法是由孙奇;刘雨萌;卓成;金谦;姜钰琪设计研发完成，并于2025-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法，不仅具备高精度的建模能力与缺陷识别性能，同时显著降低模型部署成本，具备高度自动化、统一建模与工程可扩展性等优势。包括以下步骤：构建图像生成与缺陷检测双任务数据集；基于统一的Transformer架构，构建融合工艺条件的两阶段图像生成模型，实现由layout图像生成mask与contour图像；针对layout、mask与contour三类图像，构建基于DETR的缺陷检测模型，进行DRC、MRC、LRC检测；构建端到端光刻大模型框架，支持输入layout后同时输出mask、contour及DRCMRCLRC检测结果。

本发明授权视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法在权利要求书中公布了：1.视觉大模型辅助的统一多任务计算光刻建模与缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、利用Calibre仿真工具在多工艺条件下生成layout、mask与contour图像，构建图像生成与缺陷检测双任务数据集，为后续多任务学习提供数据基础； 步骤2、在步骤1所构建的数据基础上，基于统一的Transformer架构，构建融合工艺条件的两阶段图像生成模型，实现由layout图像生成mask与contour图像； 步骤3、基于步骤1中构建的真实缺陷检测数据集，针对layout、mask与contour三类图像，构建基于DETR的缺陷检测模型，进行DRC、MRC、LRC检测； 步骤4、在两阶段图像生成模型与缺陷检测模型的基础上，构建统一的端到端光刻建模与缺陷检测框架，该框架以步骤1中采集的layout图像为输入，首先通过步骤2的两阶段图像生成模型生成mask与contour图像；随后，结合生成图像与真实图像，引入步骤3的DETR检测模块，实现对DRC、MRC、LRC多类缺陷的综合检测与定位。

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