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龙图腾网获悉苏州国微纳半导体设备有限公司申请的专利一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119793117B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411993309.5，技术领域涉及：B01D50/20；该发明授权一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备是由陈睿;陈以国;庞浩楠;孟晓燕设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体镀膜设备排气过滤领域，且公开了一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备，包括排气设备和主管，所述主管的底部设有有副管，所述副管的形状为U形，所述副管的内部设有加热结构和冷却结构，所述加热结构与冷却结构相互联动，本发明提供的具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备设有副管，副管的内部设有加热结构和制冷结构，加热和制冷结合在一起后当排出的有杂质气体进入副管内后先进行加热再冷却，引导气体杂质在冷却区域沉积过滤，同时先加热再冷却可以出现极大的温度反差，提升杂质沉积过滤效率，制冷结构内设有清理环，在杂质沉积在副管的表面时，清理环可以进行附着杂质清理。

本发明授权一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备在权利要求书中公布了：1.一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备，包括排气设备（1）和主管（2），其特征在于：所述主管（2）的底部设有副管（3），所述副管（3）的形状为U形，所述副管（3）的内部设有加热结构（7）和冷却结构（4），所述加热结构（7）与冷却结构（4）相互联动，所述加热结构（7）对气流进行加热，所述冷却结构（4）对气体进行冷却形成温差使杂质沉淀； 所述冷却结构（4）包括制冷板（401），所述制冷板（401）的顶部设有控制端（408），所述副管（3）内壁的一侧设有固定盘（409），所述固定盘（409）的一侧转动设有主齿轮（411），所述主齿轮（411）的顶部和底部均转动设有副齿轮（410），所述副齿轮（410）与主齿轮（411）相啮合，所述副齿轮（410）的一侧转动设有往复丝杆（405），所述往复丝杆（405）上滑动设有清理环（407）； 所述加热结构（7）包括支撑盘（704），所述支撑盘（704）的顶部转动设有导流轮（703），所述导流轮（703）的底部设有万向轴（706），所述万向轴（706）的底部贯穿支撑盘（704）且延伸至支撑盘（704）的外部，所述万向轴（706）的数量为两个，两个所述万向轴（706）相对一侧之间固定设有控制杆（705），另一个所述万向轴（706）的一侧与主齿轮（411）的一侧相固定连接，所述副管（3）一侧的外部设有加热板（701），所述副管（3）内壁一侧的顶部设有锥形环（702）。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人苏州国微纳半导体设备有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市高新区通安镇华金路225号5幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。