京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司魏立超获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利修正装置、修正方法及蒸镀设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119332221B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411456066.1，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权修正装置、修正方法及蒸镀设备是由魏立超;沈帅;罗小刚;王洪胜;何祖杰;李亮;王占帅;胡继元;杨林;肖昂;池昶恂设计研发完成，并于2024-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本修正装置、修正方法及蒸镀设备在说明书摘要公布了：本公开提供一种修正装置、修正方法及蒸镀设备，修正装置包括检测装置、调节装置以及与所述检测装置和调节装置连接的控制器；所述检测装置用于检测待蒸镀基板的形变信息并将所述形变信息传输至所述控制器；所述调节装置包括多个调节组件，任一所述调节组件包括调节杆，所述调节杆用于伸入掩膜版的调节槽内，其中所述掩膜版具有与所述待蒸镀基板相背的第一表面，所述第一表面上设置有与所述调节组件一一对应的多个调节槽；所述控制器用于根据所述形变信息计算掩膜版修正时各个调节槽所需的调节力，并控制各个调节杆施加所述调节力至对应的调节槽以对所述掩膜版的形状进行修正。
本发明授权修正装置、修正方法及蒸镀设备在权利要求书中公布了：1.一种修正装置，其特征在于，包括检测装置、调节装置以及与所述检测装置和调节装置连接的控制器； 所述检测装置用于检测待蒸镀基板的形变信息并将所述形变信息传输至所述控制器； 所述调节装置包括多个调节组件，任一所述调节组件包括调节杆，所述调节杆用于伸入掩膜版的调节槽内，其中所述掩膜版具有与所述待蒸镀基板相背的第一表面，所述第一表面上设置有与所述调节组件一一对应的多个调节槽； 所述控制器用于根据所述形变信息计算掩膜版修正时各个调节槽所需的调节力，并控制各个调节杆施加所述调节力至对应的调节槽以对所述掩膜版的形状进行修正。
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