大立光电股份有限公司程俊嘉获国家专利权
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龙图腾网获悉大立光电股份有限公司申请的专利成像镜头与电子装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223320675U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422453201.9，技术领域涉及：G02B13/00；该实用新型成像镜头与电子装置是由程俊嘉;范丞纬;林正峰设计研发完成，并于2024-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本成像镜头与电子装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种成像镜头包含一光学元件，且光学元件为透光元件。光学元件包含一光学部以及一外周部。光学部包含一入射面以及一出射面，其中成像光线由入射面进入光学元件，且成像光线由出射面离开光学元件。外周部较光学部远离成像镜头的光轴。外周部包含至少一连接面以及多个空气屏障。连接面连接入射面与出射面。空气屏障设置于外周部的至少部分表面，且空气屏障自所述至少部分表面朝向光轴的方向凹陷。空气屏障的凹陷轮廓包含点状和线状两者之中的至少一者。本实用新型还公开具有上述成像镜头的电子装置。
本实用新型成像镜头与电子装置在权利要求书中公布了：1.一种成像镜头，其特征在于，包含： 一光学元件，所述光学元件为透光元件，且所述光学元件包含： 一光学部，包含： 一入射面，一成像光线由所述入射面进入所述光学元件；以及 一出射面，所述成像光线由所述出射面离开所述光学元件；以及 一外周部，较所述光学部远离所述成像镜头的一光轴，且所述外周部包含： 至少一连接面，连接所述入射面与所述出射面； 一缩减面，邻接于所述至少一连接面且较所述至少一连接面靠近所述光轴； 一注料痕，设置于所述缩减面上；以及 多个空气屏障，至少设置于所述注料痕并朝向所述光轴的方向凹陷； 其中，所述空气屏障的凹陷轮廓包含点状和线状两者之中的至少一者，且各所述空气屏障的凹陷宽度为Wab，其满足下列条件： 0.008毫米≤Wab≤0.07毫米。
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