台湾积体电路制造股份有限公司何承颖获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利图像传感器获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223322364U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422290420.X,技术领域涉及:H10F39/18;该实用新型图像传感器是由何承颖;许凯钧;王文德;谢承谕;刘人诚设计研发完成,并于2024-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本图像传感器在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种图像传感器,所述图像传感器包括在半导体衬底内位于第一数组中的多个感光区域。微透镜在半导体衬底之上设置于第二数组中。多个金属半屏蔽件设置于微透镜的子集与对应的感光区域之间。金属半屏蔽件所具有的尺寸及位置会提供半屏蔽,使得能达成半屏蔽相位探测自动聚焦。抗反射涂层设置于金属半屏蔽件之上。金属半屏蔽件及抗反射涂层可位于复合栅格中,复合栅格在多个彩色滤光片之间提供侧向分隔。作为另外一种选择,金属半屏蔽件及抗反射涂层可位于包括彩色滤光片的层下方。抗反射涂层包括四分之一波层。
本实用新型图像传感器在权利要求书中公布了:1.一种图像传感器,其特征在于,包括: 半导体衬底,具有第一侧及第二侧,所述第二侧不同于所述第一侧; 金属内连线结构,在所述第一侧之上包括多个金属化层; 多个光电探测器,包括在所述半导体衬底内位于第一数组中的多个感光区域; 多个微透镜,在所述第二侧之上位于第二数组中,其中所述多个微透镜被定位成将入射辐射聚焦于位于所述第一数组中的所述多个感光区域中的对应的感光区域上; 多个金属半屏蔽件,位于所述多个微透镜的子集以及与其对应于的多个感光区域之间,其中所述多个金属半屏蔽件是能达成半屏蔽相位探测自动聚焦的类型;以及 多个抗反射涂层,位于所述多个金属半屏蔽件之上。
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