武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司罗时文获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司申请的专利一种基于NED镜头的成像光谱仪点扩散函数的测量方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118980497B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411180447.1，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权一种基于NED镜头的成像光谱仪点扩散函数的测量方法及装置是由罗时文;刘璐宁;钟凡;王戬;梅林海;郑增强;刘荣华设计研发完成，并于2024-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于NED镜头的成像光谱仪点扩散函数的测量方法及装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种基于NED镜头的成像光谱仪点扩散函数的测量方法及装置，属于光学测量技术领域，包括：控制第一入射光源以目标角度入射至NED镜头后得到第二入射光源，其中，第一入射光源为具有波长为λ1的单色平行光，目标角度为第一入射光源相对于NED镜头的入射角度；第一入射光源经由NED镜头后输出的第二入射光源成像于成像光谱仪狭缝各个位置，获得狭缝上各个位置的准单色点光源；狭缝上各个位置的准单色点光源经过成像光谱仪系统成像，得到像面强度分布，根据像面强度分布获得各个位置的准单色点光源的点扩散函数，通过本申请实现了对狭缝各点的点扩散函数的进行测量，提高对于点扩散函数进行测量的便捷性与全面性。
本发明授权一种基于NED镜头的成像光谱仪点扩散函数的测量方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于NED镜头的成像光谱仪点扩散函数的测量方法，其特征在于，包括： 控制第一入射光源以目标角度入射至NED镜头后得到第二入射光源，其中，所述第一入射光源为具有波长为λ1的单色平行光，所述目标角度为所述第一入射光源相对于所述NED镜头的入射角度； 所述第一入射光源经由所述NED镜头后输出的所述第二入射光源成像于成像光谱仪狭缝各个位置，获得狭缝上各个位置的准单色点光源; 所述狭缝上各个位置的准单色点光源经过成像光谱仪系统成像，得到像面强度分布，根据所述像面强度分布获得所述各个位置的准单色点光源的点扩散函数。
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