济南量子技术研究院;合肥国家实验室蔚鲁昆获国家专利权
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龙图腾网获悉济南量子技术研究院;合肥国家实验室申请的专利一种量子芯片清洗方法及清洗容器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118156121B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410189491.2，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权一种量子芯片清洗方法及清洗容器是由蔚鲁昆;宿非凡;严凯;张海斌设计研发完成，并于2024-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种量子芯片清洗方法及清洗容器在说明书摘要公布了：本发明提出了一种量子芯片清洗方法及清洗容器，量子芯片清洗方法包括以下步骤：获取UV膜和涂过保护胶的晶圆；在晶圆未涂有保护胶的一面粘贴所述UV膜，对所述晶圆沿预设的切割轨迹进行切割，且不划透所述UV膜；将切割后得到的多个量子芯片进行裁切分组，相邻的两个所述量子芯片沿其之间的切割轨迹向所述UV膜的方向对折；将对折后的两个量子芯片放入清洗容器中，将所述清洗容器浸泡至去胶液中；所述UV膜脱落后，将脱落的所述UV膜取出，对所述量子芯片进行依次进行清洗烘干。本发明的量子芯片清洗方法避免了手动操作过程中工具过多的接触芯片，有效保护量子芯片。
本发明授权一种量子芯片清洗方法及清洗容器在权利要求书中公布了：1.一种量子芯片清洗方法，其特征在于，包括以下步骤： 获取UV膜和涂过保护胶的晶圆； 在晶圆未涂有保护胶的一面粘贴所述UV膜，对所述晶圆沿预设的切割轨迹进行切割，且不划透所述UV膜； 将切割后得到的多个量子芯片进行裁切分组，相邻的两个所述量子芯片沿其之间的切割轨迹向所述UV膜的方向对折； 将对折后的两个量子芯片沿着清洗容器的隔板插入所述清洗容器的盒体中，将所述清洗容器浸泡至去胶液中； 所述UV膜脱落后，将脱落的所述UV膜取出，对所述量子芯片进行依次进行清洗烘干。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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