买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种利用SF₆废气等离子体刻蚀SiO₂的系统与方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116059806B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211620535.X，技术领域涉及：B01D53/32；该发明授权一种利用SF₆废气等离子体刻蚀SiO₂的系统与方法是由崔兆仑;郝艳捧;阳林;李立浧设计研发完成，并于2022-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种利用SF₆废气等离子体刻蚀SiO₂的系统与方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种利用SF6废气等离子体刻蚀SiO2的系统与方法。所述系统中的洗气室、稀释气体压缩室通过流量计和电磁阀与混气室相连，并与放电室相连，放电室分别又与S沉积室、缓冲气室连接，缓冲气室与与吸收室、收集气瓶SiF4及Ar稀释气体压缩室相连接。应用本发明可以首先对SF6废气进行初步洗涤，之后根据降解需求形成SF6H2稀释气体混合气体，在放电室中发生还原性降解反应并与SiO2发生刻蚀，生成S单质与SiF4气体，经缓冲气室实现杂质气体、SiF4、Ar的分离，实现S单质、SiF4高纯气体收集，以及稀释气体载气的循环利用，确保SF6废气高效、不可逆降解过程实现以及F元素分离后的二次利用。

本发明授权一种利用SF₆废气等离子体刻蚀SiO₂的系统与方法在权利要求书中公布了：1.一种利用SF6废气等离子体刻蚀SiO2的系统，其特征在于，包括洗气室（1）、混气室（4）、放电室（7）、缓冲气室、收集气瓶（10）、S沉积室（11）和吸收室（12）， 洗气室（1）、混气室（4）、放电室（7）、缓冲气室和收集气瓶（10）依次连通，且往混气室（4）内通入还原气体H2和稀释气体，且在洗气室（1）和混气室（4）之间的管道上、混气室（4）和放电室（7）之间的管道上均设置有流量计和电磁阀，其中，洗气室（1）用于对SF6废气进行预处理，放电室（7）内设置有接地极、高压驱动电源与低温等离子体反应器，且低温等离子体反应器中填充有SiO2颗粒，通过低温等离子体驱动SF6H2放电分解并实现SiO2刻蚀过程，缓冲气室用于对稀释气体、SiF4以及其余杂质气体进行分离； S沉积室（11）与放电室（7）连接，以沉积放电室（7）中SF6H2还原性降解产生的S单质固体粉末； 吸收室（12）与缓冲气室连接，吸收室（12）用于处理放电处理产生的杂质气体； 还包括稀释气体压缩室（13），用于往混气室（4）内通入稀释气体，其中，稀释气体压缩室（13）的两端分别连通混气室（4）和缓冲气室以实现稀释气体的循环使用； 缓冲气室内设置依次连通的第一精馏塔（8）和第二精馏塔（9），第一精馏塔（8）的输入端与放电室（7）连通，输出端与稀释气体压缩室（13）和第二精馏塔（9）均连通，第二精馏塔（9）的输出端与收集气瓶（10）和吸收室（12）均连通。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华南理工大学，其通讯地址为：510640 广东省广州市天河区五山路381号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。