芝浦机械电子装置株式会社番塲隆札获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利清洗装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115810575B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211090891.5,技术领域涉及:H01L21/687;该发明授权清洗装置是由番塲隆札设计研发完成,并于2022-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种清洗装置,可减少清洗基板的外周端面的端面刷成为基板的污染源或维护时的障碍的情况。实施方式的清洗装置具有:腔室,具有用于清洗所搬入的基板的清洗室;旋转驱动部,在清洗室内使保持基板的外周的多个辊旋转,由此对基板进行旋转驱动;清洗液喷出部,对基板喷出清洗液;清洗部,使刷接触旋转的基板的至少其中一个面,由此清洗基板的面;外周清洗部,使端面刷接触基板的外周端面,由此清洗基板的外周端面;收容腔室,具有收容外周清洗部的收容室;以及移动机构,使外周清洗部在可清洗外周端面的清洗位置、与收容于收容室的收容位置之间移动。
本发明授权清洗装置在权利要求书中公布了:1.一种清洗装置,其特征在于,包括: 腔室,具有用于清洗所搬入的基板的清洗室; 旋转驱动部,在所述清洗室内使保持基板的外周的多个辊旋转,由此对所述基板进行旋转驱动; 清洗液喷出部,对所述基板喷出清洗液; 清洗部,使刷接触旋转的所述基板的至少其中一个面,由此清洗所述基板的面; 外周清洗部,使端面刷接触所述基板的外周端面,由此清洗所述基板的所述外周端面; 收容腔室,具有收容所述外周清洗部的收容室; 移动机构,使所述外周清洗部在能够清洗所述外周端面的清洗位置、与收容于所述收容室的收容位置之间移动;以及 遮蔽部,将所述收容室从所述清洗室遮蔽。
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