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龙图腾网获悉蓝思科技股份有限公司申请的专利渐变蒙砂产品及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114879448B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210372668.3，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权渐变蒙砂产品及其制备方法是由唐文江;吴承晚设计研发完成，并于2022-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本渐变蒙砂产品及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种渐变蒙砂产品及其制备方法。渐变蒙砂产品的制备方法，包括：获得具有渐变排列的凸型微结构的母版，使用所述母版压印初始压印板，得到具有凹型微结构的目标压印板，所述凹型微结构与所述渐变排列的凸型微结构互补；使用所述目标压印板压印基底表面的纳米压印材料层并同时进行光固化，然后脱模、刻蚀得到具有所述渐变排列的凸型微结构的渐变蒙砂产品。渐变蒙砂产品，使用所述的渐变蒙砂产品的制备方法制得。本申请提供的渐变蒙砂产品的制备方法，制得的产品具有凸型微结构，具有渐变的特殊视觉效果，同时能够防眩光、耐磨，使得产品可以自由定制，良率高，工艺更环保。

本发明授权渐变蒙砂产品及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种渐变蒙砂产品的制备方法，其特征在于，包括： 使用具有凹型微结构的原版压印第一基材获得具有渐变排列的凸型微结构的母版，使用所述母版压印初始压印板，得到具有所述凹型微结构的目标压印板，所述凹型微结构与所述渐变排列的凸型微结构互补；使用所述母版压印初始压印板的条件包括：压印温度为60℃-80℃，压力为6MPa-10MPa； 使用所述目标压印板压印基底表面的纳米压印材料层并同时进行光固化，然后脱模、刻蚀得到具有所述渐变排列的凸型微结构的渐变蒙砂产品；使用所述目标压印板压印基底表面的纳米压印材料层，包括：压力为5Ncm-25Ncm，速度为150mmmin-250mmmin，压印滚轮间隙为-0.5mm至3mm的条件下进行滚压； 所述原版通过紫外曝光、电子束曝光或激光雕刻第二基材得到； 所述第一基材和所述第二基材各自独立地为玻璃、石英、蓝宝石、聚酰亚胺膜、陶瓷材料或金属中的任一种； 所述初始压印板包括柔性衬底和设置在所述柔性衬底表面的图形层； 所述柔性衬底包括聚酰亚胺，所述图形层包括聚甲基丙烯酸甲酯。

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