合肥芯碁微电子装备股份有限公司程建高获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请的专利直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114721228B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210242537.3,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置是由程建高;董帅;赵美云;蔡健设计研发完成,并于2022-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置在说明书摘要公布了:本发明提出一种直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置,方法包括:确定PCB板上每个原始分区对应的对位靶点的坐标;根据对位靶点的坐标确定与对位靶点对应的邻域对位点的坐标;根据对位靶点的坐标及邻域对位点的坐标重新确定PCB板的分区及与分区对应的变换模式;根据分区及变换模式确定所述分区的映射矩阵;根据映射矩阵确定目标曝光坐标,并根据目标曝光坐标对PCB板进行曝光。本发明通过采用相同的变换模式对PCB板的分区进行变换,并根据分区及变换模式确定分区的映射矩阵,根据映射矩阵确定目标曝光坐标,实现对PCB板的曝光,从而,避免在每个分区采用各自变换参数进行变换,导致分区之间出现错位及白边问题,提高了产品质量。
本发明授权直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种用于直写光刻设备的分区曝光方法,其特征在于,包括: 确定PCB板上每个原始分区对应的对位靶点的坐标; 根据所述对位靶点的坐标确定与所述对位靶点对应的邻域对位点的坐标; 根据所述对位靶点的坐标及所述邻域对位点的坐标重新确定所述PCB板的分区及与所述分区对应的变换模式,其中,所述根据所述对位靶点的坐标及所述邻域对位点的坐标重新确定所述PCB板的分区包括:确定距离所述对位靶点距离最远的邻域对位点,并将与所述对位靶点距离最远的邻域对位点之间的距离作为半径,重新确定所述PCB板的分区; 根据所述分区及所述变换模式确定所述分区的映射矩阵; 根据所述映射矩阵确定目标曝光坐标,并根据所述目标曝光坐标对所述PCB板进行曝光。
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