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成都辰显光电有限公司董小彪获国家专利权

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龙图腾网获悉成都辰显光电有限公司申请的专利转移装置及显示面板的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116190503B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111436735.5,技术领域涉及:H10H29/01;该发明授权转移装置及显示面板的制备方法是由董小彪;盛翠翠;李蒙蒙;高文龙;林佳桦;钱先锐;葛泳设计研发完成,并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

转移装置及显示面板的制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及显示面板技术领域,公开了一种转移装置及显示面板的制备方法。在该制备方法中,在生长基板背离第一临时基板的一侧照射激光,即进行激光剥离工艺,以将外延层转移至第一临时基板。换言之,本发明外延层在形成微发光器件之前先转移至第一临时基板,如此在激光剥离工艺中外延层能够遮挡激光,避免激光照射到第一临时基板上的键合层,因而能够减少键合层受激光影响的程度,进而能够提高激光剥离工艺的良率。

本发明授权转移装置及显示面板的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括: 在生长基板上形成外延层; 将所述外延层与第一临时基板上的键合层键合; 在所述生长基板背离所述第一临时基板的一侧照射激光,以将所述外延层转移至所述第一临时基板; 对所述外延层进行图案化处理,以形成至少两个微发光器件; 将所述第一临时基板上的所述微发光器件转移至驱动背板; 其中,所述对所述外延层进行图案化处理,以形成至少两个微发光器件的步骤包括: 对所述外延层进行图案化处理,以形成至少两个外延单元; 在各所述外延单元背离所述第一临时基板的一侧形成电极,其中所述外延单元及其上的电极组成所述微发光器件; 在所述第一临时基板朝向所述外延单元的一侧形成遮光材料层,其中所述遮光材料层覆盖各所述外延单元及其上的电极,且还覆盖相邻所述外延单元之间的键合层; 去除覆盖所述电极以及覆盖相邻所述外延单元之间的键合层的遮光材料层,保留覆盖所述外延单元的外表面的遮光材料层,以形成阻光结构; 其中,所述将所述第一临时基板上的所述微发光器件转移至驱动背板的步骤之前包括: 在所述驱动背板上形成多个限位结构,其中相邻所述限位结构之间形成限位槽; 将所述微发光器件转移至所述限位槽中,以限制所述微发光器件在所述驱动背板上的位置,所述限位结构具有粘性以及弹性。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人成都辰显光电有限公司,其通讯地址为:611731 四川省成都市高新区天映路146号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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