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龙图腾网获悉迈康尼股份公司申请的专利偏移对准方法和显微光刻印刷装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115668064B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180040102.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权偏移对准方法和显微光刻印刷装置是由A.斯文松设计研发完成，并于2021-05-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本偏移对准方法和显微光刻印刷装置在说明书摘要公布了：一种用于显微光刻印刷装置的偏移对准方法，该方法包括放置S10对准目标基材。目标图案呈现出相对于原点限定的至少两种不同光反射率的区域。照射S20对准目标基材。测量S30反射光。通过测量的光产生S40目标图案的反射图像。所述照射是根据光的测试图案进行的，该测试图案具有有光照区域和无光照区域。该测试图案是相对于原点限定的。从反射图像中的与目标图案相关的特征确定S50实测目标图案原点，并且从反射图像中的与测试图案相关的特征确定实测测试图案原点。从实测目标图案原点与实测测试图案原点计算S60实测位置与写入位置之间的偏移。

本发明授权偏移对准方法和显微光刻印刷装置在权利要求书中公布了：1.一种用于显微光刻印刷装置1的偏移对准方法，包括以下步骤： -将对准目标基材置于S10所述显微光刻印刷装置的基材支架上； 所述对准目标基材具有呈现至少两种不同光反射率的区域的目标图案15； 所述目标图案15是相对于目标图案原点16预先确定和限定的； -通过所述显微光刻印刷装置1的印刷头20照射S20所述对准目标基材； -测量S30从所述对准目标基材的不同点反射的光； -按照所述测量的光产生S40所述目标图案的反射图像， 其特征在于： 所述照射包括用光的测试图案65照射所述对准目标基材； 所述测试图案65具有有光照区域和无光照区域； 所述测试图案65是相对于测试图案原点66预先确定和限定的； -从与所述目标图案15相关联的所述反射图像中的特征确定S50与所述目标图案原点16对应的实测目标图案原点16’，并且从与所述测试图案65相关联的所述反射图像中的特征确定与所述测试图案原点66对应的实测测试图案原点66’； -以所述实测目标图案原点16’与所述实测测试图案原点66’之间的差异和所述目标图案原点16与所述测试图案原点66之间的差异的差值计算S60实测位置与写入位置之间的偏移。

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