光驰科技(上海)有限公司靳伟获国家专利权
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龙图腾网获悉光驰科技(上海)有限公司申请的专利一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112267101B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011357028.2，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置是由靳伟;余海春;戴秀海设计研发完成，并于2020-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架，其中搬运室设置在进出片室和镀膜室之间，搬运室内部设置有基片真空搬运系统，基片真空搬运系统用于实现进出片室和镀膜室之间的基片交换，进出片室和外部基片架之间通过外部机械手实现基片交换。本发明的优点是：1）在可实现自动搬运的同时，显著提高搬运效率；2）使不同的腔体的接口所需空间很小；这样可以使进出片室和镀膜室的可以留出更多的腔体空间进行工艺所需单元的布置，有利于设备的布局规划及工艺拓展；3）成膜的均匀性更好；同时，使一次镀膜工艺的产能增大；4）保证工艺的最优化，有效提高溅射工艺的成膜质量。
本发明授权一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置在权利要求书中公布了：1.一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述溅射成膜装置包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架，其中所述搬运室设置在所述进出片室和所述镀膜室之间，所述搬运室内部设置有基片真空搬运系统，所述基片真空搬运系统用于实现所述进出片室和所述镀膜室之间的基片交换，所述进出片室和所述外部基片架之间通过外部机械手实现基片交换、 所述基片真空搬运系统包括前后推进模组、旋转模组、两个取片机构，两个所述取片机构与所述前后推进模组相连接并可在所述前后推进模组的驱动下前后推进，所述旋转模组连接所述前后推进模组并可通过驱动所述两个取片机构旋转，进而实现所述进出片室和所述镀膜室之间的基片交换，该基片交换指的是，镀膜室内的已成膜基片或基片串和进出片室内的待成膜基片或基片串之间的交换。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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