ASML荷兰有限公司林庆煌获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于器件制造的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114787710B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080078841.8，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权用于器件制造的方法是由林庆煌;G·里斯朋斯设计研发完成，并于2020-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于器件制造的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及使用高敏感度极紫外EUV抗蚀剂来制造例如集成电路的器件的改进方法。本发明还涉及用于执行这种方法的集成晶片处理系统。该方法包括制造器件，该方法包括：a.将极紫外EUV抗蚀剂晶片曝光于EUV辐射，以生产经曝光的EUV抗蚀剂晶片；b.在富氧气体环境中在约20℃至约450℃的范围的温度烘烤经曝光的EUV抗蚀剂晶片；c.处理经曝光的EUV抗蚀剂晶片以生产器件；其中，富氧气体环境包括大于约21.0％体积的氧含量，并且其中，EUV抗蚀剂包括Sn、Sb、Cd、Cr、Zn、Hf、Po、Pd和Te中的一种或多种。
本发明授权用于器件制造的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于制造器件的方法，所述方法包括： a.将极紫外，EUV，抗蚀剂晶片曝光于EUV辐射，以生产经曝光的EUV抗蚀剂晶片； b.在富氧气体环境中以在20℃至450℃的范围内的温度烘烤所述经曝光的EUV抗蚀剂晶片； c.处理所述经曝光的EUV抗蚀剂晶片以生产器件； 其中，所述富氧气体环境包括大于21.0％体积的氧含量，并且其中，所述EUV抗蚀剂包括核-壳型纳米颗粒，核包括Sn、Sb、Cd、Cr、Zn、Zr、Hf、Po、Pd和Te中的一种或多种，有机壳包括一种或多种类型的配体； 其中所述方法附加地包括在烘烤步骤期间去除一种或多种副产物。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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