三星电子株式会社韩奎斌获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利图案布局设计方法、图案形成方法和半导体器件制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112684659B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011072242.3，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权图案布局设计方法、图案形成方法和半导体器件制造方法是由韩奎斌;金尚昱设计研发完成，并于2020-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案布局设计方法、图案形成方法和半导体器件制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种设计图案的布局的方法、使用其形成图案的方法、和制造半导体器件的方法。在一旋转方向上旋转原始图案的布局以形成旋转图案的布局。将旋转图案的布局的顶点和分割点与参考点中离其最近的参考点匹配，并连接匹配的参考点，以形成第一修改图案的布局。放大第一修改图案的布局的区域，以形成第二修改图案的布局。形成具有与旋转图案的布局相同的方向的参考图案的布局。基于参考图案和第二修改图案的布局重叠的区域，形成目标图案的布局。对目标图案的布局执行光学邻近校正，以形成第三修改图案的布局，将第三修改图案的布局在相反的旋转方向上旋转以形成最终图案的布局。
本发明授权图案布局设计方法、图案形成方法和半导体器件制造方法在权利要求书中公布了：1.一种设计图案的布局的方法，所述方法包括： 将设计在掩模上的原始图案的布局在第一旋转方向上旋转一旋转角，以形成旋转图案的布局，所述掩模包括参考点； 将所述旋转图案的所述布局的顶点和分割点分别与所述掩模的所述参考点中的对应参考点匹配，并且连接匹配的参考点以形成第一修改图案的布局，所述掩模的所述参考点之中的所述对应参考点分别离所述旋转图案的所述布局的所述顶点和所述分割点最近； 扩大所述第一修改图案的所述布局的区域，以形成第二修改图案的布局； 形成具有与所述旋转图案的所述布局相同的方向的参考图案的布局； 基于所述参考图案的所述布局和所述第二修改图案的所述布局彼此重叠的区域，形成目标图案的布局； 对所述目标图案的所述布局执行光学邻近校正，以形成第三修改图案的布局；以及 将所述第三修改图案的所述布局在第二旋转方向上旋转所述旋转角，以形成最终图案的布局，所述第二旋转方向与所述第一旋转方向相反。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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