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龙图腾网获悉卡尔蔡司SMT有限责任公司申请的专利用于微光刻的投射光学单元和制造结构化部件的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114008532B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080044731.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于微光刻的投射光学单元和制造结构化部件的方法是由H.J.罗斯塔尔斯基;H.穆恩斯;C.门科设计研发完成，并于2020-06-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于微光刻的投射光学单元和制造结构化部件的方法在说明书摘要公布了：本发明关于一种用于微光刻的投射光学单元以及一种制造结构化部件的方法。一种用于微光刻的投射光学单元包含多个反射镜，其用于将成像光301、510、601、701、801沿着从位于物面OP上的物场5到位于像面IP上的像场9的成像光束路径引导，其中数值孔径NA具有大于0.5的数值，其中多个反射镜包含用于掠入射的至少三个反射镜GI反射镜，其使中心物场点的主射线以大于45°的入射角偏转，其中从物场到像场通过操作中的投射光学单元7、300、500、600、700、800的不同偏振光束，由于几何偏振旋转而在其偏振方向上旋转不同旋转角，其中投射光学单元包含反射镜A的第一群组及反射镜B的第二群组，前述反射镜的第二群组由在像侧的前述多个反射镜的最后两个反射镜Mn‑1、Mn构成，其中投射光学单元的总几何偏振旋转|Z3A+Z3B|的光瞳相关性中的线性部分小于反射镜的第二群组的几何偏振旋转|Z3B|的光瞳相关性中的线性部分的20％。

本发明授权用于微光刻的投射光学单元和制造结构化部件的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于微光刻的投射光学单元，包含 多个反射镜，用于将成像光301、501、601、701、801沿着从位于物面OP中的物场5到位于像面IP中的像场9的成像光束路径引导，其中数值孔径NA具有大于0.5的数值； 其中所述多个反射镜包含用于掠入射的至少三个反射镜GI反射镜，其使中心物场点的主射线以大于45°的入射角偏转； 其中从该物场5到该像场9通过操作中的该投射光学单元7、300、500、600、700、800的不同偏振光束，由于几何偏振旋转而在其偏振方向上旋转不同旋转角； 其中该投射光学单元7、300、500、600、700、800包含反射镜的第一群组A及反射镜的第二群组B，所述反射镜的第二群组B由在像侧的所述多个反射镜的最后两个反射镜Mn-1、Mn构成，其中该投射光学单元的总几何偏振旋转|Z3A+Z3B|的光瞳相关性中的线性部分小于所述反射镜的第二群组B的几何偏振旋转|Z3B|的光瞳相关性中的线性部分的20％； 其中针对将该物场5的中心成像到该像场9的中心的所有光束，所述旋转角皆小于35°*NA4.5。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人卡尔蔡司SMT有限责任公司，其通讯地址为：德国上科亨；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。