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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利一种水稻冠层二向反射率模拟方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120449515B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510937479.X，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种水稻冠层二向反射率模拟方法及系统是由刘小娟;彭漪;方圣辉;李坤;吴慧丽;堵佳莹;陈聪设计研发完成，并于2025-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种水稻冠层二向反射率模拟方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种水稻冠层二向反射率模拟方法及系统，包括根据水稻所处的生长阶段和生长特性设定冠层垂直结构参数和冠层组分参数，将两种参数输入到SAIL模型中，构建水稻冠层辐射传输模型，然后将水稻各生长阶段的土壤反射率、垂直分层的每层叶面积、不同垂直分层的叶片反射率和叶片透射率，以及入射镜面辐射比例、模拟水稻叶倾角分布函数、太阳天顶角、观测天顶角和观测方位角输入到构建的水稻冠层辐射传输模型中，实现对水稻各生长阶段的冠层反射率的模拟。与传统冠层辐射传输模型相比，本发明引入了水稻冠层组分参数，并量化表征冠层垂直结构的非均质分布特征，显著提升了水稻各生长阶段的冠层二向反射率的模拟精度。

本发明授权一种水稻冠层二向反射率模拟方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种水稻冠层二向反射率模拟方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1，获取水稻各生长阶段的冠层反射率、土壤反射率、叶倾角、仪器测量时的白板反射率和黑板反射率，测量水稻各生长阶段垂直分层的每层叶面积，采集水稻各生长阶段不同垂直分层的叶片分别以白板、黑板为背景的叶片反射率，并记录观测点的位置、目标水稻的位置、观测日期、观测设备的高度、观测方向和入射镜面辐射比例； 步骤2，计算水稻各生长阶段不同垂直分层的叶片反射率和叶片透射率，统计水稻的叶倾角分布概率，并建立模拟水稻叶倾角分布函数； 水稻各生长阶段不同垂直分层的叶片反射率和叶片透射率的计算公式为： （1） （2） 式中，为叶片反射率，为叶片透射率，和分别表示仪器测量时的白板反射率和黑板反射率，和分别表示使用黑板和白板为背景测得的水稻叶片反射率； 式（1）和式（2）联合解算可得叶片透射率和叶片反射率： （3） （4） 将水稻的叶倾角和叶倾角分布概率代入到自适应Sigmoid函数，建立模拟水稻叶倾角分布函数，具体计算公式为： （5） 式中，a为决定曲线的峰值，b为决定曲线的陡度，c是一个速度系数，e为自然对数函数的底数，x为叶倾角，单位是度，y为叶倾角的分布概率； 步骤3，利用观测点的位置和观测日期计算太阳天顶角，利用目标水稻的位置、观测设备的高度和观测方向计算观测天顶角，利用观测点的位置和目标水稻的位置计算观测方位角； 步骤4，根据水稻所处的生长阶段和生长特性设定冠层垂直结构参数和冠层组分参数，将两种参数输入到SAIL模型中，构建水稻冠层辐射传输模型； 步骤5，利用构建的水稻冠层辐射传输模型实现水稻各生长阶段冠层反射率的模拟。

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