拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司龙占勇获国家专利权
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龙图腾网获悉拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司申请的专利气体混合分配机构、进气装置及沉积制备设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223329427U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422753478.3，技术领域涉及：C30B25/14；该实用新型气体混合分配机构、进气装置及沉积制备设备是由龙占勇;韩雪岭;李洪;刘定财;梁展程;刘群设计研发完成，并于2024-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本气体混合分配机构、进气装置及沉积制备设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于碳化硅外延生长设备技术领域，公开了气体混合分配机构、进气装置及沉积制备设备，气体混合分配机构包括混合腔体、匀气板以及隔板，混合腔体设置有内腔，混合腔体沿第一方向的两端设置有连通内外的进气口和出气口；多个匀气板沿第一方向将内腔分为依次设置的预混腔与至少两个混合腔，匀气板上设置有连通匀气板两侧的匀气孔，每个混合腔内沿第二方向均设置有多个隔板，隔板将每个混合腔均分隔成若干第一小腔，沿第一方向相邻的两个混合腔的第一小腔错位设置，并通过匀气孔连通；位于最下游的第一小腔均对应有出气口，进气装置包括上述气体混合分配机构，沉积制备设备采用上述进气装置，以使气体能够充分混合。
本实用新型气体混合分配机构、进气装置及沉积制备设备在权利要求书中公布了：1.气体混合分配机构，其特征在于，包括： 混合腔体1，所述混合腔体1设置有内腔，所述混合腔体1沿第一方向的两端设置有连通内外的进气口11和出气口； 匀气板2，多个所述匀气板2沿所述第一方向将所述内腔分为依次设置的预混腔与至少两个混合腔，所述匀气板2上设置有连通所述匀气板2两侧的匀气孔21； 隔板3，每个所述混合腔内沿第二方向均设置有多个所述隔板3，所述隔板3将每个所述混合腔均分隔成若干第一小腔4，沿所述第一方向相邻的两个所述混合腔的所述第一小腔4错位设置，并通过所述匀气孔21连通；位于最下游的所述第一小腔4均对应有所述出气口； 所述第一方向与所述第二方向夹角设置。
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