武汉楚兴技术有限公司赵永智获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉楚兴技术有限公司申请的专利等离子体处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223333748U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422699437.0，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型等离子体处理装置是由赵永智设计研发完成，并于2024-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本公开实施例提供一种等离子体处理装置，涉及半导体技术领域，以解决相关技术中等离子体处理装置中聚焦环有消耗导致刻蚀均匀性变差的问题。本等离子体处理装置包括壳体、卡盘、聚焦环和导线。壳体包括顶板、底板和第一侧板，第一侧板围绕顶板和底板周向设置，形成处理腔。卡盘设置于处理腔内，卡盘被配置为承载待处理基片。聚焦环环绕卡盘的周向设置。导线设置于处理腔内，且位于聚焦环远离卡盘的一侧，导线的延伸方向与聚焦环的表面和卡盘的表面所在的平面垂直，且，导线被配置为，在聚焦环最低的表面，低于待处理基片最高的表面的情况下，传输电流方向由顶板指向底板的电流。本等离子体处理装置用于对待处理基片进行刻蚀加工。
本实用新型等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，用于刻蚀待处理基片，其特征在于，包括： 壳体，包括顶板、底板和第一侧板；所述第一侧板围绕所述顶板和所述底板周向设置，形成处理腔； 卡盘，设置于所述处理腔内；所述卡盘被配置为承载所述待处理基片； 聚焦环，环绕所述卡盘的周向设置； 至少一条导线，设置于所述处理腔内，且位于所述聚焦环远离所述卡盘的一侧；所述导线的延伸方向与所述聚焦环的表面和所述卡盘的表面所在的平面垂直。
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