拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司龙占勇获国家专利权
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龙图腾网获悉拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司申请的专利喷淋头结构及沉积制备装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223329380U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422621842.0，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型喷淋头结构及沉积制备装置是由龙占勇;韩雪岭;李洪;刘定财;梁展程;刘群设计研发完成，并于2024-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷淋头结构及沉积制备装置在说明书摘要公布了：本实用新型属于薄膜材料生长技术领域，公开了喷淋头结构及沉积制备装置，喷淋头结构包括喷头本体、冷却管以及供气管，喷头本体内设置有互相隔离的内腔，喷头本体上开设有连通内腔的出气孔；冷却管的一端连接于喷头本体上，冷却管设置有流体进管，所述流体进管用于连通供应冷却流体的供给装置冷却管上还开设有流体出口，供气管的一端由冷却管穿入至喷头本体内连通内腔，沉积制备装置包括腔体以及上述喷淋头结构，喷头本体设置于腔体内，以向腔体内供应反应用气体，从而能够向冷却管内充入冷却流体，降低喷头本体的温度，以避免气体在喷头本体上提前反应的现象；并且通过分隔的内腔，能够调整不同的位置的供气量，使膜厚更加均匀，提升产品质量。
本实用新型喷淋头结构及沉积制备装置在权利要求书中公布了：1.喷淋头结构，其特征在于，包括： 喷头本体1，所述喷头本体1内设置有若干互相隔离的内腔14，所述喷头本体1上开设有若干连通所述内腔14的出气孔11，每个所述内腔14均对应有所述出气孔11； 冷却管2，所述冷却管2的一端连接于所述喷头本体1上，所述冷却管2设置有流体进管24，所述流体进管24用于连通供应冷却流体的供给装置，所述冷却管2上还开设有流体出口21； 若干供气管3，所述供气管3与所述内腔14一一对应设置，所述供气管3的一端由所述冷却管2穿入至所述喷头本体1内，并连通所述内腔14。
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