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龙图腾网获悉西北工业大学宁波研究院;西北工业大学申请的专利超长焦深超分辨光针生成方法及其高深宽比激光直写系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116520645B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310397526.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权超长焦深超分辨光针生成方法及其高深宽比激光直写系统是由虞益挺;李文丽;赫培;纪海玉;安铖旭设计研发完成，并于2023-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本超长焦深超分辨光针生成方法及其高深宽比激光直写系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种长焦深超分辨光针生成方法及高深宽比激光直写系统，采用多焦点拼接延长焦深的特点，结合遗传算法突破传统透镜数值孔径与焦深之间的矛盾，通过超振荡透镜对入射光场进行调控，实现高数值孔径下长焦深光场，得到超越衍射极限的超长焦深超分辨光针光场；最终将这种超越衍射极限的超长焦深超分辨光针光场用来实现高深宽比激光直写加工，实现线宽小于衍射极限且加工深度有一定要求的微纳结构加工；另外，本发明产生的超长焦深超分辨光针光场不需要任何空间笨重复杂的机械结构可以直接实时获取，使高深宽比激光直写系统的架构更简单且易于系统的小型化设计。

本发明授权超长焦深超分辨光针生成方法及其高深宽比激光直写系统在权利要求书中公布了：1.一种超长焦深超分辨光针生成方法，其特征在于，包括： 步骤1、利用随机数发生器产生N个相同的高数值孔径相位掩膜，并基于矢量角谱理论分别计算N个高数值孔径相位掩膜产生的N个光场，N个高数值孔径相位掩膜作为初始种群，每个光场中的光轴上分布有M个焦点； 步骤2、设置优化目标，并根据优化目标给定约束条件，并设定光场光轴上的焦点拼接的要求，将高数值孔径相位掩膜后的M个焦点进行拼接形成强度均匀、半高宽突破衍射极限的长焦深光针； 步骤3、将初始种群中的N个高数值孔径相位掩膜作为遗传算法种群中的染色体X=（X1，X2，...Xi，...XN）；Xi表示第i个高数值孔径相位掩膜，设初始遗传代数k=1； 步骤4、计算每个染色体中的适应度函数值； 步骤5、将当前种群中的染色体进行交叉、变异操作，并将步骤2中设定的约束条件作为惩罚函数项叠加到优化目标中，采用惩罚函数对当前种群内的各个染色体进行约束修正；生成下一代种群； 步骤6、判断k是否达到预设的最大遗传代数K，若达到，则终止优化，进入步骤7，否则，k=k+1，并将下一代种群作为遗传算法种群中的染色体，返回步骤4； 步骤7、从当前种群中选择适应度函数值最高的染色体，从而得到高数值孔径相位掩膜对应的超长焦深超分辨光针。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西北工业大学宁波研究院;西北工业大学，其通讯地址为：315103 浙江省宁波市高新区清逸路218弄A3栋5楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。