上海裕达实业有限公司朱勇勇获国家专利权
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龙图腾网获悉上海裕达实业有限公司申请的专利质谱仪及其气相离子源装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116206943B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211708284.0，技术领域涉及：H01J49/26；该发明授权质谱仪及其气相离子源装置是由朱勇勇;陈元;郭锡岩;何洋;肖育设计研发完成，并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本质谱仪及其气相离子源装置在说明书摘要公布了：本发明涉及质谱仪技术领域内的一种质谱仪及其气相离子源电离装置，包括第一金属网、第二金属网以及电离源腔室；第一金属网与第二金属网两者以平行间隔方式固定于电离源腔室内，电离源腔室设有进样口、载气进口以及离子出口，进样口位于第一金属网与第二金属网之间，载气进口位于第二金属网的外侧，离子出口位于第一金属网的外侧；第一金属网加载高电平，第二金属网加载低电平，气相样品经进样口进入第一金属网和第二金属网之间，电离源腔室内工作气压的改变使第一金属网对第二金属网放电，被电离离子在第一金属网的电压和载气的辅助作用下飞向离子出口。本申请相对于传统气相电离源具有易于小型化且设计简单、成本低、无耗材、不需要维护等优势。
本发明授权质谱仪及其气相离子源装置在权利要求书中公布了：1.一种气相离子源电离装置，其特征在于，包括第一金属网1、第二金属网2以及电离源腔室3； 所述第一金属网1与所述第二金属网2两者以平行间隔方式固定于所述电离源腔室3内，所述电离源腔室3设有进样口31、载气进口32以及离子出口33，所述进样口31位于所述第一金属网1与所述第二金属网2之间，所述载气进口32位于所述第二金属网2的外侧，所述离子出口33位于所述第一金属网1的外侧； 所述第一金属网1加载高电平，所述第二金属网2加载低电平，气相样品经所述进样口31进入所述第一金属网1和第二金属网2之间，所述电离源腔室3内工作气压的改变使所述第一金属网1对所述第二金属网2放电，位于所述第一金属网1与所述第二金属网2之间的气相样品被电离，被电离的离子在所述第一金属网1的电压和通过所述载气进口32进入的载气的辅助作用下飞向所述离子出口33，并经所述离子出口33被引出所述电离源腔室3之外而进入下一级系统。
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