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龙图腾网获悉中国科学院半导体研究所申请的专利化学气相沉积设备及碳化硅外延层制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115896934B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211664731.7，技术领域涉及：C30B25/02；该发明授权化学气相沉积设备及碳化硅外延层制备方法是由刘兴昉;杨尚宇;闫果果;王雷;赵万顺;孙国胜;曾一平设计研发完成，并于2022-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本化学气相沉积设备及碳化硅外延层制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种化学气相沉积设备，包括：备样室、操作室、反应室以及取样室。其中，备样室适用于提供放置装载有衬底晶圆片的托盘的空间；操作室，包括：机械手以及陷气阱，机械手适用于抓取备样室中的托盘并输运至对应的反应室；陷气阱适用于排空进入操作室的气体；反应室，包括：多个生长室以及中转室，多个生长室分别适用于提供生长相应外延层的反应空间；中转室适用于在多个生长室同时生长对应的外延层时，对多个托盘提供暂存的空间；取样室，适用于放置装载有反应完成的晶圆片的托盘；其中，操作室配置为设置于化学气相沉积设备的中心，其他各室配置为设置于操作室的周围；操作室与其它各室之间通过阀门连接。

本发明授权化学气相沉积设备及碳化硅外延层制备方法在权利要求书中公布了：1.一种化学气相沉积设备，包括： 备样室，适用于提供放置装载有衬底晶圆片的托盘的空间； 操作室，包括： 机械手，包括弹力绳盒、弹力绳收纳轮、电机和可动指盘，适用于自动抓取所述备样室中的所述托盘并输运至对应的反应室； 所述弹力绳盒适用于放置弹力绳，其中，所述机械手的材质为石墨以及碳化硅陶瓷中的一种，所述弹力绳为碳绳，均可以耐高温至1650℃； 所述可动指盘上配置有多组可动指，其中，相邻两组可动指呈90度夹角，从而实现平稳地抓取装载有晶圆片的托盘； 陷气阱，包括上部和下部，适用于排空进入所述操作室的气体；所述上部包括整面铺设的入气孔、第一隔离墙；其中，所述入气孔被所述第一隔离墙均匀地隔开； 所述下部包括陷气槽、第二隔离墙、回气孔；其中，所述陷气槽配置为环状，相邻两个所述第二隔离墙之间设置有多个所述回气孔； 所述反应室，包括： 第一生长室，适用于提供生长缓冲层的反应空间； 第二生长室，适用于提供生长N型外延层的反应空间； 第三生长室，适用于提供生长P型外延层的反应空间；以及 中转室，适用于在所述第一生长室、所述第二生长室以及所述第三生长室同时生长对应的外延层时，对多个所述托盘提供暂存的空间； 取样室，适用于放置装载有反应完成的晶圆片的托盘； 其中，所述操作室配置为设置于化学气相沉积设备的中心，所述备样室、所述反应室以及所述取样室配置为设置于以所述操作室为中心的同一圆周上；所述操作室与其它各室之间通过阀门连接。

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