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龙图腾网获悉杭州电子科技大学申请的专利一种脱离基准平面的平面度误差测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115790363B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211357134.X，技术领域涉及：G01B7/34；该发明授权一种脱离基准平面的平面度误差测量方法是由王文;岳树清;许凯飞;方威;王家豪;张恒毅;杨贺;卢科青;陈占锋;王传勇设计研发完成，并于2022-11-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种脱离基准平面的平面度误差测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种脱离基准平面的平面度误差测量方法；该测量方法如下：一、使用两个非接触位移传感器相对于被测平面绕同一轴线旋转一周并采样，得到两个数据集；三、利用两个数据集的线性组合消除旋转的轴向误差，获得被测面的平面度误差。本发明采用两个位移传感器相对于被测平面沿同一轨迹旋转并采样后，利用自行推导的平面度误差处理的公式，对两个位移传感器的测量结果中耦合的轴向回转误差予以分离，从而在未提高机械结构精度的情况下得到精确的平面度误差，避免了高精度基准平面的使用，实现高效率、低成本和高精度的平面度误差测量。

本发明授权一种脱离基准平面的平面度误差测量方法在权利要求书中公布了：1.一种脱离基准平面的平面度误差测量方法，其特征在于：包括以下步骤： 步骤一、将被测工件3安装在旋转平台13上，使得被测工件3的被测面与旋转平台13的转动轴线平行；在机架上设置朝向被测面的两个非接触位移传感器；两个非接触位移传感器的检测部到旋转平台13的转动轴线的距离相等； 步骤二、旋转平台13带动被测工件3旋转一周；两个非接触位移传感器对被测面进行持续采样，分别得到数据集S1＝{s11,s12,...,s1N}，S2＝{s21,s22,...,s3N}；其中，s1i为第一个非接触位移传感器对被测面进行第i次采样时测得距离相对于起始时刻测得距离的变化值；s2i为第二个非接触位移传感器对被测面进行第i次采样时测得距离相对于起始时刻测得距离的变化值；i＝1,2,...,N；N为采样次数； 步骤三、根据数据集S1、S2构建集合S＝{s1,s2,...,sN}；si为两个非接触位移传感器的第i次检测所得数据的线性组合，其表达式si＝s1i-s2i； 步骤四、建立消除旋转平台13轴向回转误差的平面度误差关系式如下： si＝ri-ri+m1 其中，ri、ri+m1为两个非接触位移传感器在被测面上的检测点对应的平面度误差；m1为两个非接触位移传感器对同一采样位置的滞后采样次数，其表达式为α1为两个非接触位移传感器相对于旋转平台13转动轴线的相位差；f为两个非接触位移传感器的采样频率；ω为旋转平台13的转动角速度； 步骤五.通过求解步骤四中得到的关系式得到误差向量R＝{r1,r2,...,rN}；取误差向量R的极差作为被测面的平面度误差。

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