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龙图腾网获悉无锡迪思微电子有限公司申请的专利掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115808849B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111071159.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置是由耿明春设计研发完成，并于2021-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置，掩模版中，第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块以及第二标识块，第二坐标标识包括第三标识块以及第四标识块，第三标识块与第一标识块平行，第四标识块与第二标识块平行，该方法包括：获取目标标识间距，目标标识间距为待测掩模版的标识间距，标识间距包括第一间距以及第二间距，第一间距为第三标识块与第一标识块的之间的最小距离，第二间距为第四标识块与第二标识块之间的最小距离；根据目标标识间距，确定目标图形偏移量，目标图形偏移量为待测掩模版的图形偏移量，图形偏移量为有效区域的实际位置与设计位置之间的差值。解决了现有技术中掩模版图形精度的量测成本较高的问题。

本发明授权掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置在权利要求书中公布了：1.一种掩模版的图形精度的确定方法，其特征在于，所述掩模版由有效区域以及坐标标识区域构成，所述坐标标识区域包括第一坐标标识以及第二坐标标识，所述第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块以及第二标识块，所述第二坐标标识包括第三标识块以及第四标识块，所述第三标识块与所述第一标识块平行，所述第四标识块与所述第二标识块平行，所述方法包括： 获取目标标识间距，所述目标标识间距为待测掩模版的标识间距，所述标识间距包括第一间距以及第二间距，所述第一间距为所述第三标识块与所述第一标识块的之间的最小距离，所述第二间距为所述第四标识块与所述第二标识块之间的最小距离； 根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，所述目标图形偏移量为所述待测掩模版的图形偏移量，所述图形偏移量为所述有效区域的实际位置与设计位置之间的差值，所述方法不应用于IPRO设备， 根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，包括：获取所述图形偏移量与所述标识间距的函数关系；根据所述函数关系以及所述目标标识间距，确定所述目标图形偏移量， 或者，根据所述目标标识间距，确定目标图形偏移量，包括：获取神经网络模型；使用所述神经网络模型对所述目标标识间距进行分析，确定所述目标图形偏移量。

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