株式会社瑞光岛田崇博获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社瑞光申请的专利吸收体制造装置和吸收体制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115715178B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180043968.0，技术领域涉及：A61F13/15；该发明授权吸收体制造装置和吸收体制造方法是由岛田崇博设计研发完成，并于2021-07-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本吸收体制造装置和吸收体制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种吸收体制造装置和一种吸收体制造方法，其能够阻止在将吸收物质喷射到底层的过程中吸收物质的分散。本发明中的基材2沿着输送滚筒12的旋转外周表面12s被输送。粒状吸收物质8从面向输送滚筒12的外周表面12s的喷射器30的喷射口32排出，并且吸收物质8被喷射到沿着输送滚筒12的外周表面12s输送的基材2上。吸收物质8喷射到底层2上的喷射位置是可控的。例如，控制喷射器30的喷射口32的位置或控制吸收物质8从喷射器30的喷射口32排出的排出角度。
本发明授权吸收体制造装置和吸收体制造方法在权利要求书中公布了：1.一种吸收体制造装置，其特征在于：它包括： 输送滚筒，所述输送滚筒具有旋转的圆柱形外周表面，并且沿着外周表面输送基材； 喷射器，所述喷射器具有面向所述输送滚筒的外周表面的喷射口，从所述喷射口排出粒状吸收物质，并将所述吸收物质喷射到沿着所述输送滚筒的外周表面输送的所述基材上，使仅所述粒状吸收物质被所述基材捕获；和 喷射位置控制装置，所述喷射位置控制装置用于控制所述吸收物质喷射到所述基材上的喷射位置， 其中所述喷射位置控制装置包含：改变粒状吸收物质的喷射位置的喷射位置改变装置；检测吸收物质的喷射位置或喷射情况的检测装置；和控制装置，所述控制装置控制喷射位置改变装置同时监控由检测装置检测的吸收物质的喷射位置或喷射情况，其中所述喷射位置控制装置的控制装置控制所述喷射位置，使得当水平面和垂直于所述输送滚筒的旋转中心线并经过所述喷射位置的直线所形成的角度为θ时，所述角度θ在满足0°≤θ≤60°的预定范围内。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社瑞光，其通讯地址为：日本国大阪府茨木市彩都花田二丁目1番2号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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