福建金石能源有限公司陈伟文获国家专利权
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龙图腾网获悉福建金石能源有限公司申请的专利一种电化学沉积金属图形的方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112864281B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110237208.5，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权一种电化学沉积金属图形的方法及设备是由陈伟文;杨与胜设计研发完成，并于2021-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种电化学沉积金属图形的方法及设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种电化学沉积金属图形的方法，它具体步骤包括A.水平排片；B.贴膜成串；C.水平曝光；D.显影成形；E.电化学沉积；F.退膜蚀刻；G.清洁成品。本发明的目的在于提供一种电化学沉积金属图形的方法及设备，其能够整线水平生产，破片率低，可实现全自动化程度高，产能大，生产作业环境良好。
本发明授权一种电化学沉积金属图形的方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种电化学沉积金属图形的方法，其特征在于：它具体步骤包括 A.水平排片：将基片沿输送方向依序水平排布； B.贴膜成串：将导电带和感光膜带贴合在经步骤A水平排片处理的基片上，使基片成串； C.水平曝光：基片经步骤B贴膜成串处理后，对每个基片区域进行曝光，完成图形转移； D.显影成形：将经步骤C水平曝光处理的基片进行水平显影，感光膜带在基片上形成带有待电化学沉积的镂空图形的干膜； E.电化学沉积：将经步骤D显影成形处理的基片水平送入电化学沉积设备，通过导电带连接电化学沉积设备的阴极，和电化学沉积设备的阳极形成导电闭环，进行水平电化学沉积； F.退膜蚀刻：将经步骤E电化学沉积处理的基片进行干膜去除，并回收导电带； G.清洁成品：将经步骤F退膜蚀刻处理的基片进行清洗并干燥。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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