TCL科技集团股份有限公司王华民获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉TCL科技集团股份有限公司申请的专利一种薄膜、电致发光器件及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695818B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011630879.X，技术领域涉及：H10K71/13；该发明授权一种薄膜、电致发光器件及其制备方法是由王华民设计研发完成，并于2020-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄膜、电致发光器件及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种薄膜、电致发光器件及其制备方法。所述薄膜的制备方法，包括步骤：提供具有像素坑的基板；通过溶液法将墨水转移至基板上的像素坑内；对所述像素坑内的墨水施加超声波，经干燥得到所述薄膜。本发明在墨水通过溶液法转入像素坑后，在墨水挥发的过程中，向像素坑内的墨水施加超声波，该超声波具有一定的能量，可以使墨水内部的流动性加快，使得像素坑内各区域墨水在挥发过程中的浓度保持相对一致，从而提高形成的薄膜的均匀性。另外，超声波具有的能量还能使墨水的内能提高，一定程度上增加了墨水的挥发速率，避免了墨水因毛细效应而产生的墨水浓度分布不均匀形成的薄膜不均匀的现象。
本发明授权一种薄膜、电致发光器件及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种薄膜的制备方法，其特征在于，包括步骤： 提供具有像素坑的基板； 通过溶液法将墨水转移至基板上的像素坑内； 对所述像素坑内的墨水施加超声波，经干燥得到所述薄膜； 所述对所述像素坑内的墨水施加超声波的步骤，具体包括：对着像素坑的正上方，从上往下发射超声波； 施加超声波到预设时间后，逐渐减小超声波的强度，直至超声波的强度为零。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人TCL科技集团股份有限公司，其通讯地址为：516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号