北京晶亦精微科技股份有限公司蔡长益获国家专利权
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龙图腾网获悉北京晶亦精微科技股份有限公司申请的专利晶圆抛光后清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223347735U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422594891.X，技术领域涉及：H01L21/02；该实用新型晶圆抛光后清洗装置是由蔡长益;邹毅达设计研发完成，并于2024-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆抛光后清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种晶圆抛光后清洗装置，包括清洗箱、若干个承托立辊以及两个水平滚刷，承托立辊用于承托并带动晶圆周向旋转，两个水平滚刷沿上下方向滑动连接于清洗箱内、能够上下移动至与晶圆的顶面或底面相接以滚刷晶圆的顶面或底面，清洗箱内设有第一喷嘴及第二喷嘴。本实用新型提供的晶圆抛光后清洗装置，利用承托立辊承托并带动晶圆旋转，先利用第一喷嘴向晶圆表面喷淋化学液以腐蚀晶圆表面的SiO2，之后在第二喷嘴中去离子水的作用下，通过上下移动水平滚刷使水平滚刷从上下两侧夹紧晶圆，并在水平滚刷的自转以及平移作用下对旋转的晶圆进行表面洗刷，实现对晶圆表面的彻底清洗，提高了晶圆的清洗质量和清洗效率。
本实用新型晶圆抛光后清洗装置在权利要求书中公布了：1.晶圆抛光后清洗装置，其特征在于，包括清洗箱1、若干个承托立辊2以及两个水平滚刷3，所述承托立辊2沿上下方向设置于所述清洗箱1内、用于承托并带动晶圆8周向旋转，两个所述水平滚刷3沿上下方向滑动连接于所述清洗箱1内、所述水平滚刷3能够上下移动至与晶圆8的顶面或底面相接以滚刷晶圆8的顶面或底面，所述清洗箱1内设有用于向晶圆8表面喷淋化学液的第一喷嘴11以及用于向晶圆8表面喷淋去离子水的第二喷嘴12。
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