北京晶亦精微科技股份有限公司左晓磊获国家专利权
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龙图腾网获悉北京晶亦精微科技股份有限公司申请的专利光电催化辅助化学机械抛光装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223339158U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422555846.3，技术领域涉及：B24B37/20；该实用新型光电催化辅助化学机械抛光装置是由左晓磊;潘宏明;张康;王磊;于乃明;蔡长益设计研发完成，并于2024-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本光电催化辅助化学机械抛光装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种光电催化辅助化学机械抛光装置，包括平台、抛光盘、透明抛光垫、抛光头、光敏抛光液摆臂以及紫外灯珠，抛光盘转动连接于平台上方，透明抛光垫层叠设置于抛光盘上，光敏抛光液摆臂连接于平台上、用于向透明抛光垫层上喷淋抛光液，透明抛光垫上贯穿设有过液孔，抛光头与电源正极相连，抛光盘与电源负极相连，紫外灯珠嵌装于抛光盘上。本实用新型提供的光电催化辅助化学机械抛光装置，利用光敏抛光液摆臂喷淋光敏抛光液、并在抛光盘上设置有紫外灯珠，使紫外光经过透明抛光垫照射至光敏抛光液上或抛光头下方的晶圆上，同步产生强氧化的活性基团，提高晶圆表面碳化硅的氧化速率，进而提高晶圆的抛光效率。
本实用新型光电催化辅助化学机械抛光装置在权利要求书中公布了：1.光电催化辅助化学机械抛光装置，其特征在于，包括平台1、抛光盘2、透明抛光垫3、抛光头4、光敏抛光液摆臂5以及紫外灯珠6，所述抛光盘2转动连接于所述平台1上方，所述透明抛光垫3层叠设置于所述抛光盘2上，所述光敏抛光液摆臂5连接于所述平台1上、用于向所述透明抛光垫3层上喷淋抛光液，所述透明抛光垫3上贯穿设有供抛光液通过的过液孔31，所述抛光头4与电源正极相连、用于吸附晶圆并带动晶圆转动，所述抛光盘2与电源负极相连，所述紫外灯珠6嵌装于所述抛光盘2上、用于发射紫外光。
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