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龙图腾网获悉安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司申请的专利一种晶片双面清洁设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119016468B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411383123.8，技术领域涉及：B08B11/00；该发明授权一种晶片双面清洁设备是由邵毅;冯校亮;王刚设计研发完成，并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶片双面清洁设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种晶片双面清洁设备，本发明涉及晶片清洁技术领域，包括支撑平台，所述支撑平台上端安装有对再生晶片限位并且控制再生晶片围绕自身轴线定向转动的驱动装置，还包括对再生晶片表面清洁的清理条以及对清理条进行导向的导向结构，所述导向结构包括两组第一导向装置以及一组第二导向装置，两组所述第一导向装置位于驱动装置两侧对称布置，所述第二导向装置位于驱动装置上方预定位置；所述清理条依次穿过第一个第一导向装置、第二导向装置、第二个第一导向装置形成倒置的V字形结构。该发明能够实现对再生晶片双面的同步连续清洁，极大地提高了再生晶片清洁的效率。

本发明授权一种晶片双面清洁设备在权利要求书中公布了：1.一种晶片双面清洁设备，包括支撑平台（100），所述支撑平台（100）上端安装有对再生晶片（500）限位并且控制再生晶片（500）围绕自身轴线定向转动的驱动装置（400），还包括对再生晶片（500）表面清洁的清理条（700）以及对清理条（700）进行导向的导向结构，其特征在于： 所述导向结构包括两组第一导向装置（300）以及一组第二导向装置（600），两组所述第一导向装置（300）位于驱动装置（400）两侧对称布置，所述第二导向装置（600）位于驱动装置（400）上方预定位置；所述清理条（700）依次穿过第一个第一导向装置（300）、第二导向装置（600）、第二个第一导向装置（300）形成倒置的V字形结构，所述第一导向装置（300）与清理条（700）之间具有折弯点，所述折弯点位于再生晶片（500）圆心或者圆心正下方位置； 其中，通过驱动装置（400）控制再生晶片（500）围绕自身轴线定向转动的同时控制清理条（700）按照预定轨迹定向移动完成对再生晶片（500）双面的连续清洁； 所述第二导向装置（600）包括导向支架（610），所述导向支架（610）内壁安装有两组间隔布置的抵紧滚轮（620），还安装有位于两个抵紧滚轮（620）上方的换向滚轮（630），所述清理条（700）绕经换向滚轮（630）进行换向，两个所述抵紧滚轮（620）均位于清理条（700）外侧与清理条（700）相抵； 所述导向支架（610）侧壁开有调节开口（611），两个所述抵紧滚轮（620）均位于调节开口（611）内，且调节开口（611）内安装有控制两个抵紧滚轮（620）之间距离的调节组件。

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