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龙图腾网获悉江苏籽硕科技有限公司申请的专利一种半导体设备反应腔室的清理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223337997U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421960448.3，技术领域涉及：B08B9/093；该实用新型一种半导体设备反应腔室的清理设备是由陶勇刚;任凯强;王乃雷设计研发完成，并于2024-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体设备反应腔室的清理设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种半导体设备反应腔室的清理设备，其包括半导体主体和接触盖板，所述半导体主体内侧设置有腔体，所述半导体主体和腔体两侧均设置有喷射管，所述喷射管外端均设置有喷射调节器，所述喷射管上方内部和半导体主体上方外侧设置有传输管，所述传输管外端设置有干粉储存容器，所述接触盖板中部表面设置有连通槽，所述连通槽内部设置有支撑环，通过设置的喷射调节器和喷射管，利用喷射管可将干粉储存容器内部储存的干燥气体或干粉喷射到需要清理的部位，由喷射调节器实现调节喷射气体的压力，以防止对腔室或设备造成损害，避免液体清洗过程对半导体主体内部造成液体污染。

本实用新型一种半导体设备反应腔室的清理设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体设备反应腔室的清理设备，包括：半导体主体（1）和接触盖板（3），其特征在于，所述半导体主体（1）内侧设置有腔体（13），所述半导体主体（1）和腔体（13）两侧均设置有喷射管（11），所述喷射管（11）外端均设置有喷射调节器（8），所述喷射管（11）上方内部和半导体主体（1）上方外侧设置有传输管（19），所述传输管（19）外端设置有干粉储存容器（9），所述接触盖板（3）中部表面设置有连通槽（5），所述连通槽（5）内部设置有支撑环（14），所述支撑环（14）内侧上下两端均设置有十字支撑架（15），所述十字支撑架（15）内侧中部设置有电动转轴（16），所述电动转轴（16）中部外侧表面设置有送风扇（17），所述电动转轴（16）外侧上下两端均设置有定位环（18），所述十字支撑架（15）上方内侧四周均设置有扇形密封板（10），所述半导体主体（1）底部设置有底座（2），所述底座（2）上方中部设置有卡盘（12），所述半导体主体（1）顶部两侧均设置有T形卡条（6），所述接触盖板（3）底部两侧均设置有T形条槽（7），所述接触盖板（3）顶部一侧设置有驱动电机（4）。

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