合肥芯碁微电子装备股份有限公司张敏获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请的专利直写光刻设备和曝光控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118884780B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411056139.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权直写光刻设备和曝光控制方法是由张敏;戴晓霖;武邵东设计研发完成，并于2024-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本直写光刻设备和曝光控制方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种直写光刻设备和曝光控制方法，直写光刻设备包括：光源、工件台、至少一排的数字微镜单元、对应每个数字微镜单元的投影系统、散热系统和控制器。其中，工件台上适于放置基板，基板上有光刻膜；数字微镜单元用于对光源投射的光线进行调制以形成数字掩膜图案；投影系统用于将对应的数字微镜单元投射的带有数字掩膜图案的光投影到基板上；散热系统用于对基板进行散热；控制器与每个数字微镜单元、散热系统连接，用于曝光时启动散热系统并根据基板温度与环境温度的差值控制散热系统的散热强度。该设备可以在基板进行光刻阻焊时，通过控制器控制散热系统对基板进行散热，避免基板上奇偶条带光刻膜在按先后顺序曝光后具有奇偶性规律的油墨颜色差异。
本发明授权直写光刻设备和曝光控制方法在权利要求书中公布了：1.一种直写光刻设备，其特征在于，包括： 光源； 工件台，所述工件台上适于放置基板，所述基板上有光刻膜； 至少一排的数字微镜单元，所述数字微镜单元用于对光源投射的光线进行调制以形成数字掩膜图案； 对应每个所述数字微镜单元的投影系统，所述投影系统用于将对应的所述数字微镜单元投射的带有所述数字掩膜图案的光投影到所述基板上，其中，所述基板上的光刻膜以奇偶条带的形式进行曝光并且所述奇偶条带的曝光顺序存在先后； 散热系统，所述散热系统用于对所述基板进行散热； 控制器，所述控制器与每个所述数字微镜单元、所述散热系统连接，用于曝光时启动所述散热系统并根据基板温度与环境温度的差值控制所述散热系统的散热强度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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