武汉正源高理光学有限公司陶旺旺获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉正源高理光学有限公司申请的专利金属码盘的显影刻蚀治具获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223347201U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421600812.5,技术领域涉及:G03F7/30;该实用新型金属码盘的显影刻蚀治具是由陶旺旺;陈志涛;沙昭设计研发完成,并于2024-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属码盘的显影刻蚀治具在说明书摘要公布了:本申请公开了一种金属码盘的显影刻蚀治具,包括多个由上至下分布的夹持组件,夹持组件包括基座以及夹持件,通过驱动件驱动夹持件靠近或远离基座,在远离时,弹性件压缩,在靠近时,弹性件复位,在弹性作用下,夹持件具有基座贴合在一起的趋势,从而能够对金属大板进行稳定的夹持,避免相邻金属大板接触,进而避免了片与片之间发生划伤。
本实用新型金属码盘的显影刻蚀治具在权利要求书中公布了:1.一种金属码盘的显影刻蚀治具,其特征在于,包括: 多个由上至下分布的夹持组件,所述夹持组件包括: 基座,用于承载金属码盘;以及 夹持件,活动设于所述基座的上方,并与所述基座围合形成夹持腔; 多个弹性件,与多个所述夹持组件一一对应设置,所述弹性件位于所述相邻两个所述夹持组件之间,且所述弹性件的一端抵持于所述基座,相对的另一端抵持于相邻所述夹持组件的夹持件;以及 驱动件,连接多个所述夹持组件中的所述夹持件,以驱动所述夹持件靠近或远离所述基座。
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