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龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118418547B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410518362.3，技术领域涉及：B32B27/02；该发明授权一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺是由李加海;杨惠明;孙传东设计研发完成，并于2024-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺，属于阻尼布技术领域。一种用于光学元件终道抛光用阻尼布，从抛光接触面至吸附面依次包括弹性基底层、拒水层和磨料层，所述拒水层包括隔水层和缓冲层，缓冲层采用含有改性玻璃体粉末的聚氨酯发泡材料制成，隔水层为聚氨酯防水膜。本发明解决了现有阻尼布表面易滋生细菌霉变的问题，本发明提出的一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺，弹性基底层中采用外包层包覆织物层的结构，从而提高整个阻尼垫的平整度，改性玻璃体粉末内的草木灰成分能够增加抛光液的碱性，草木灰本身具有杀菌作用，能够避免阻尼布滋生细菌霉变，提高阻尼布的使用寿命。

本发明授权一种用于光学元件终道抛光用阻尼布及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种用于光学元件终道抛光用阻尼布，从抛光接触面至吸附面依次包括弹性基底层（1）、拒水层（2）和磨料层（3），其特征在于：所述拒水层（2）包括隔水层（21）和缓冲层（22），缓冲层（22）采用含有改性玻璃体粉末的聚氨酯发泡材料制成，隔水层（21）为聚氨酯防水膜，磨料层（3）由以下重量份原料制成：亚微米氧化铈15-20份、氧化锆0.5-3份、氧化铬1-2份、稀土2-5份、二氧化硅1-2份和钴4-8份； 所述弹性基底层（1）包括织物层（11）和外包层（12），织物层（11）置于外包层（12）内，弹性基底层（1）的制备方法如下：将纤维织物浸到弹性涂料中，反复挤压，取出浸有弹性涂料的纤维织物，并挤压出多余的弹性涂料，在60℃的环境下烘干，得到织物层（11），在织物层（11）的表面浇筑一层聚氨酯发泡材料，浇筑成膜后在105℃条件下固化30min，脱模，转移进入干燥箱中，升温至50-60℃预干燥20-30min，再升温至80-85℃干燥60-80min后得到成品弹性基底层（1）； 所述缓冲层（22）的制备方法如下：将酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末在常温下充分搅拌，甲苯二异氰酸酯、聚四亚甲基醚二醇、去离子水、硅油、辛酸亚锡和三乙烯二胺在常温下进行混合，添加到酯化棕榈丝和改性玻璃体粉末的混合材料中，然后真空脱气30min，并在60℃条件下保温，浇筑成膜后在105℃条件下固化30min，脱模，在105℃条件下熟化15h，室温条件下保存，制成缓冲层（22）； 所述改性玻璃体粉末的制备方法如下：将草木灰与清水按照1:100的比例搅拌均匀后，静置2小时取沉淀物烘干，并粉碎成纳米草木灰粉末；再取草木灰、石英砂、凹凸棒土和石灰混合均匀，加入纳米草木灰粉末混合加入玻璃熔炉中，加热到1530-1600℃的高温下，熔炼2-3小时，再降至1400-1450℃下澄清1.5-2小时，制得玻璃液，然后淬入冷水中得到碎璃体，再研磨成3-5μm改性玻璃体粉末。

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