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龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117604453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311681079.4，技术领域涉及：C23C14/10；该发明授权红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺是由李加海;高伟东;曹荣府设计研发完成，并于2023-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺，属于石英基板镀膜技术领域。本发明的红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺，包括以下步骤：步骤一：对石英基板进行清洗，去除表面的污物，准备真空镀膜设备，将镀膜设备内抽真空，使真空度达到8×10‑4～10×10‑4Pa。本发明解决了现有石英基板红外线反射率低的问题，本发明提出的红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺，采用硅、氮气、银和铝为镀膜材料，对红外线反射率高达90％以上，同时利用硅的熔点低的特点，将其与氮气反应，生成氮化硅，氮化硅将银和铝粒子融合，共同形成氮化硅层，保证反射率的同时，提高了整个膜层的强度和化学稳定性。

本发明授权红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺在权利要求书中公布了：1.红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一：对石英基板进行清洗，去除表面的污物，准备真空镀膜设备，将镀膜设备内抽真空，使真空度达到8×10-4～10×10-4Pa； 步骤二：启动镀膜设备，对石英基板进行加热，温度控制在150～200℃，加热5-10min，完成加热后向真空室内注入氩气进行分压，压力控制在0.75Pa； 步骤三：镀膜设备中使用氩气作为喷溅气体，采用硅为靶材，通入氧气作为反应气体，在石英基板上形成二氧化硅膜层； 步骤四：使用氩气作为喷溅气体，采用氮化硅膜层材料为靶材，在二氧化硅膜层上通过溅射气体的方式镀一层氮化硅膜层； 步骤五：结束镀膜后，对基板与膜面进行退火操作，退火温度为700～800℃，且退火过程中采用阶梯型升温和阶梯型降温，退火完成后取出石英基板； 步骤六：对石英基板进行表面处理； 所述氮化硅膜层材料包括以下重量份原料：硅24～28份、氮气12～18份、银7～12份和铝2～4份； 所述步骤六的表面处理包括以下过程： 准备氧化镧溶液，将冷却后的石英基板浸入到氧化镧溶液内，使其充分吸收溶液中的氧化镧，将石英基板从溶液中取出，经过烘干处理，使氧化镧在石英基板表层形成氧化镧膜层。

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