南开大学王兴坤获国家专利权
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龙图腾网获悉南开大学申请的专利一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基-烯二醇干式光刻胶的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117587380B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311544565.1，技术领域涉及：C23C16/22；该发明授权一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基-烯二醇干式光刻胶的方法是由王兴坤;罗锋设计研发完成，并于2023-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基-烯二醇干式光刻胶的方法在说明书摘要公布了：一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基‑烯二醇干式光刻胶的方法，使用铝源和烯二醇作为前驱体，进行分子层沉积，沉积后得到铝基‑烯二醇干式光刻胶，分子层沉积的具体步骤为：将铝源保持在室温，并将装有烯二醇的源瓶加热至60‑120℃，反应器的温度保持在80‑150℃，并使用20sccm的干燥氮气对反应进行吹扫，每个循环反应由两个半循环组成：1通入50毫秒铝源，氮气吹扫16秒；2通入150毫秒烯二醇，氮气吹扫25秒，体系压强在13pa，沉积厚度根据沉积的循环次数控制。本发明光刻胶厚度的控制可以精确到埃级，且具其有超好的抗刻蚀性能，与硅的选择刻蚀比在80以上及良好的分辨率。
本发明授权一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基-烯二醇干式光刻胶的方法在权利要求书中公布了：1.一种使用分子层沉积制备晶圆级铝基-烯二醇干式光刻胶的方法，其特征是：以铝源和烯二醇作为前驱体，进行分子层沉积，沉积后得到铝基-烯二醇干式光刻胶，分子层沉积的具体步骤为： 将铝源保持在室温，并将装有烯二醇的源瓶加热至60-120℃，反应器的温度保持在80-150℃，并使用20sccm的干燥氮气对反应进行吹扫，每个循环反应由两个半循环组成：1通入50毫秒铝源，氮气吹扫16秒；2通入150毫秒烯二醇，氮气吹扫25秒，体系压强在13pa，沉积厚度根据沉积的循环次数控制； 烯二醇前驱体为丁烯二醇及其同分异构体、戊烯二醇及其同分异构体、己烯二醇及其同分异构体、庚烯二醇及其同分异构体、辛烯二醇及其同分异构体中的一种； 铝源前驱体为三甲基铝、三乙基铝、三氯化铝、二乙基乙氧基铝、二甲基异丙氧基铝中的一种。
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