广州华星光电半导体显示技术有限公司吴健获国家专利权
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龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利阵列基板和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117457681B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311441130.4，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权阵列基板和显示装置是由吴健设计研发完成，并于2023-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板和显示装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种阵列基板和显示装置，包括基板、第一金属层、中间绝缘层、第二金属层以及钝化层；第一金属层位于基板上，第一金属层包括金属走线，金属走线包括间隔设置于基板上的至少两个子走线；中间绝缘层位于基板上，中间绝缘层具有至少两个间隔设置的绝缘部，其中，子走线位于相邻两个绝缘部之间；第二金属层位于中间绝缘层远离基板的一表面，第二金属层包括转接部和设置于转接部的相对两侧的两个壁部，转接部位于中间绝缘层上，且转接部与子走线接触，壁部与基板接触；钝化层位于第二金属层远离基板的一表面。这样，能够避免钝化层爬坡处形成裂纹，提高产品的良品率。
本发明授权阵列基板和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括： 基板； 第一金属层，所述第一金属层位于所述基板上，所述第一金属层包括金属走线，所述金属走线包括间隔设置于所述基板上的至少两个子走线； 中间绝缘层，所述中间绝缘层位于所述基板上，所述中间绝缘层具有至少两个间隔设置的绝缘部，其中，所述子走线位于相邻两个所述绝缘部之间； 第二金属层，所述第二金属层位于所述中间绝缘层远离所述基板的一表面，所述第二金属层包括转接部和设置于所述转接部的相对两侧的两个壁部，所述转接部位于所述中间绝缘层上，且所述转接部与所述子走线接触，所述壁部与所述基板接触；以及 钝化层，所述钝化层位于所述第二金属层远离所述基板的一表面。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州华星光电半导体显示技术有限公司，其通讯地址为：510700 广东省广州市黄埔区（中新广州知识城）亿创街1号406房之417；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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