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龙图腾网获悉浙江积嘉光电有限公司申请的专利磁控溅射的膜层检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117385330B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311417960.3，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权磁控溅射的膜层检测方法及系统是由代树祥设计研发完成，并于2023-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本磁控溅射的膜层检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了磁控溅射的膜层检测方法及系统，涉及磁控溅射镀膜技术领域。所述方法包括步骤：在磁控溅射腔室中设置监测条带，监测条带与绝缘基材同时进行镀膜；根据镀膜操作的进程，在监测条带的当前镀膜段达到预设的气相沉积时间后，控制监测条带的当前镀膜段移动以将该当前镀膜段输入到膜层测量装置中；膜层测量装置在输入的监测条带的非镀膜面上设置导电层后，对设置导电层后的监测条带进行切断以获得预设长度的监测片，然后通过电容检测器对监测片进行电容测量获得该监测片的电容值后，用该电容值评价前述绝缘基材的导电镀膜层的镀膜效果。本发明能够及时、高效、准确地获取磁控溅射腔室内的导电镀膜层的沉积情况。

本发明授权磁控溅射的膜层检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射的膜层检测方法，用于对绝缘基材上沉积的导电镀膜层进行检测，其特征在于包括步骤： 在磁控溅射腔室中设置监测条带，所述监测条带与前述绝缘基材的材料相同且厚度相同，在绝缘基材镀膜过程中，所述监测条带与所述绝缘基材同时进行镀膜； 根据镀膜操作的进程，在前述监测条带的当前镀膜段达到预设的气相沉积时间后，控制前述监测条带的当前镀膜段移动以将该当前镀膜段输入到膜层测量装置中；此时，监测条带的对镀膜面上沉积形成导电镀膜层； 其中，所述膜层测量装置被配置为：采集监测条带的输入操作，在输入的监测条带的非镀膜面上设置导电层后形成薄膜电容器，对设置导电层后的监测条带进行切断以获得预设长度的监测片；通过电容检测器对前述监测片进行电容测量获得该监测片的电容值，通过监测片的电容值评价前述绝缘基材的导电镀膜层的镀膜效果； 所述膜层测量装置还包括对应着电容检测器设置的电极设置部以对监测片的两个导电层分别设置检测电极，所述检测电极分别连接电容检测器的两级；其中，在监测片的导电层上设置导电层电极，在监测片的导电镀膜层上设置导电栅格，所述导电栅格包括呈行和或列间隔布置的导电条，所述导电栅格的多个导电条用于将导电镀膜层的多个不连通的沉积区进行电连接。

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