中国科学院上海光学精密机械研究所朱美萍获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜及其设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119717082B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311278389.1，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜及其设计方法是由朱美萍;曾婷婷;李静平;张雪晨;宋晨;邵建达设计研发完成，并于2023-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜及其设计方法在说明书摘要公布了：一种基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜及其设计方法，所述方法包含以下步骤：获得材料A和材料B的折射率与膜层厚度及波长的函数；基于纳米叠层薄膜材料中两种材料子层间的界面层模型修正减反射薄膜各层折射率和厚度；采用修正后的折射率和厚度进行薄膜的结构设计，并开展薄膜制备和测试。本发明基于纳米叠层薄膜材料中两种材料子层间的渐变折射率界面层模型进行膜系设计，有效降低实验光谱与理论光谱之间的误差，提升减反射薄膜的光谱性能；该方法适用于其它光谱性能对材料折射率和厚度敏感的薄膜的设计。
本发明授权基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜及其设计方法在权利要求书中公布了：1.一种基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜，其特征在于，所述减反射薄膜由材料A的单层薄膜、材料B的单层薄膜、以及由材料A子层和材料B子层交替形成的纳米叠层薄膜材料C任意交替沉积而得； 纳米叠层薄膜材料C中材料A子层薄膜厚度为dA，在波长λ处的折射率为nAλ；纳米叠层薄膜材料C中材料B子层薄膜厚度为dB，在波长λ处的折射率为nBλ；材料A子层和材料B子层间界面扩散层厚度为dI，所述纳米叠层薄膜材料C满足以下界面层模型条件： 当dA＜dI，则nMλ＝ρM×nBλ+1-ρM×nAλ，其中，nMλ为扩散层中间点M处折射率，ρM为扩散层中间点M处材料B的占比，界面扩散层的折射率nIλ以扩散层中间点M为极值点在nMλ和nBλ间线性渐变； 当dA＞dI且dB＞dI，界面扩散层折射率nIλ在nAλ和nBλ间线性渐变； 当dB＜dI，则nMλ＝ρM×nBλ+1-ρM×nAλ，界面扩散层折射率nIλ以扩散层中间点M为极值点在nMλ和nAλ间线性渐变。
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