杭州盾源聚芯半导体科技有限公司范明明获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利一种硅电极抛光设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117020906B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311138165.0,技术领域涉及:B24B29/02;该发明授权一种硅电极抛光设备是由范明明;孙梦杰;郭立华设计研发完成,并于2023-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种硅电极抛光设备在说明书摘要公布了:本发明公开了一种硅电极抛光设备,包括行星齿轮组,其中行星齿轮组包括齿圈、太阳轮以及与齿圈和太阳轮同时啮合的行星齿圈,行星齿圈上固定设有用以承载硅电极的承载件,承载件的上下两侧分别设有安装抛光布的上抛光盘以及下抛光盘,所述承载件的上下壁均设有深度小于硅电极厚度的容纳槽,所述容纳槽底壁安装有带气孔的吸盘,所述承载件上设有与吸盘气孔连通的气流通道,气流通道内安装有气阀,硅电极安装于容纳槽内时,硅电极与吸盘贴合,气流通道的气压小于外界气压,解决硅电极安装过程中从行星齿圈上掉落的问题,方便硅电极的安装,同时防止行星齿圈与抛光布接触,延长抛光布的使用寿命。
本发明授权一种硅电极抛光设备在权利要求书中公布了:1.一种硅电极抛光设备,包括行星齿轮组,其中行星齿轮组包括齿圈4、太阳轮3以及与齿圈4和太阳轮3同时啮合的行星齿圈5,其特征在于:行星齿圈5上固定设有用以承载硅电极10的承载件6,承载件6的上下两侧分别设有安装抛光布211的上抛光盘21以及下抛光盘22,所述承载件6的上下壁均设有深度小于硅电极10厚度的容纳槽61,所述容纳槽61底壁安装有带气孔的吸盘8,所述承载件6上设有与吸盘8气孔连通的气流通道64,气流通道64内安装有气阀9,硅电极10安装于容纳槽61内时,硅电极10与吸盘8贴合,气流通道64的气压小于外界气压; 包括开设在行星齿圈5内侧壁上的至少两个定位孔51,所述承载件6上设有沿着承载件6径向滑动连接的定位杆71以及驱动定位杆71移动的驱动机构,承载件6固定时,驱动机构驱动定位杆71插接至行星齿圈5的定位孔51内。
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