厦门三德信科技股份有限公司张忠杰获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门三德信科技股份有限公司申请的专利一种抗划伤、耐污抗反射增透涂料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117229690B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310988815.4，技术领域涉及：C09D163/00；该发明授权一种抗划伤、耐污抗反射增透涂料及其制备方法是由张忠杰;庄江强设计研发完成，并于2023-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗划伤、耐污抗反射增透涂料及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种抗划伤、耐污、抗反射增透涂料及其制备方法。一种抗划伤、耐污、抗反射增透涂料，由如下材料制成：环氧低聚物50～77%；球形空心纳米二氧化硅20～40%；纳米无机氧化物1～5%；氟硅化合物1～5%；阳离子光引发剂1～5%。所述制备方法，包括步骤：将环氧低聚物按配比所需重量加入搅拌机料桶中，搅拌；边搅拌边加入配比所需量的纳米无机氧化物；添加完毕后将搅拌机的搅拌速度提高至500～2000rpm，搅拌0.5～1h；搅拌完成的浆料放入砂磨机中进行研磨；移至搅拌桶中，边搅拌边加入配比所需量的球形空心纳米二氧化硅；搅拌完成后依次加入氟硅化合物、阳离子光引发剂，继续搅拌10～30min；过滤、分装，所得涂料即抗划伤、耐污抗反射增透涂料。
本发明授权一种抗划伤、耐污抗反射增透涂料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种抗划伤、耐污抗反射增透涂料，其特征在于，由如下重量百分比的材料制成： 环氧低聚物50～77%； 球形空心纳米二氧化硅20～40%；所述球形空心纳米二氧化硅的粒径为20～200nm； 纳米无机氧化物1～5%；所述纳米无机氧化物的外形结构为球形或者椭圆形，粒径为80～200nm；纳米无机氧化物的粒径需比涂层厚度大10～100nm； 氟硅化合物1～5%；所述氟硅化合物为环氧基氟硅油、环氧基硅氧烷、氟化环氧树脂中的一种或几种，氟硅化合物中需包含环氧基团； 阳离子光引发剂1～5%。
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