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龙图腾网获悉江苏德怡半导体技术有限公司申请的专利一种等离子表面处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116406068B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310477951.7，技术领域涉及：H05H1/24；该发明授权一种等离子表面处理设备是由李奇林;欧阳鸿;冯冠乔设计研发完成，并于2023-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子表面处理设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种等离子表面处理设备，包括电极板和底座，底座上设有凹槽，凹槽的底面上设有离子喷射区，电极板设于离子喷射区上，电极板上设有承放工件的承载机构；设备还包括将电极板密封在凹槽内的活动盖；活动盖的下表面上设有进气扩容凹腔，以及密封进气扩容凹腔的扩散板；扩散板上对应离子喷射区均匀分布有多个出气孔，出气孔的轴线与离子喷射区所在平面垂直；活动盖与底座贴合的侧壁上设有第一进气道，第一进气道连通进气扩容凹腔的内侧壁，底座上设有与第一进气道连通的第二进气道，离子喷射区上设有贯穿底座的排气孔；本发明通过进气扩容凹腔和扩散板上的出气孔可保证电离气体可均匀喷射在工件上表面上，一次性加工面积大，整体结构简单。

本发明授权一种等离子表面处理设备在权利要求书中公布了：1.一种等离子表面处理设备，该设备包括电极板，其特征在于，所述设备还包括底座，所述底座上设有凹槽，所述凹槽的底面上设有离子喷射区，所述电极板设于所述离子喷射区上，所述电极板上设有承放工件的承载机构；所述设备还包括将所述电极板密封在所述凹槽内的活动盖；所述活动盖的下表面上设有进气扩容凹腔，以及密封所述进气扩容凹腔的扩散板；所述扩散板上对应所述离子喷射区均匀分布有多个出气孔，所述出气孔的轴线与所述离子喷射区所在平面垂直；所述活动盖与所述底座贴合的侧壁上设有第一进气道，所述第一进气道连通所述进气扩容凹腔的内侧壁，所述底座上设有与所述第一进气道连通的第二进气道，所述离子喷射区上设有贯穿所述底座的排气孔； 所述设备还包括将工件移送至所述承载机构上的上料机构，所述上料机构与所述底座并排设置；所述上料机构包括存放工件的弹夹料仓、于所述弹夹料仓的后端伸入并将工件推出所述弹夹料仓的推料模组、于所述弹夹料仓的前端伸入夹持工件的夹持模组，以及驱动所述夹持模组朝向所述承载机构移动的移送模组；所述夹持模组包括上下相对设置的两夹持块，和驱动两所述夹持块上下相对活动的夹持驱动单元；所述推料模组包括对应所述弹夹料仓设置的推料支臂，和驱动所述推料支臂水平朝向或背离所述弹夹料仓移动的往复驱动单元； 所述承载机构包括托条和支撑台；所述支撑台设有两个且相对设置在所述底座上，所述托条的两端分别可滑动设置在所述支撑台上，两个所述托条水平相对设置组成一个单元，两所述托条的上表面相对端均凹陷成型有定位工件的定位台阶，所述单元设有多个且左右并排设置在所述支撑台上，所述弹夹料仓对应多个所述单元设有多个；装配到位时，所述定位台阶与所述电极板之间设有间隙以形成电离腔室。

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