武汉正源高理光学有限公司沙昭获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉正源高理光学有限公司申请的专利一种高精度反射式金属码盘的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116430682B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310385181.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种高精度反射式金属码盘的制作方法是由沙昭;李钦洲;陶旺旺设计研发完成，并于2023-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高精度反射式金属码盘的制作方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高精度反射式金属码盘的制作方法，涉及码盘加工技术领域。本发明通过磁控溅射镀膜+光刻来实现码盘的线条精度，通过双面对准曝光显影进行码盘光刻胶外形制作及不锈钢蚀刻的方式来确保外形尺寸精度，通过以上两种工艺结合的方式制作出的金属码盘线条精度可以达到±1μm，码盘的内外径尺寸精度可以达到±5μm，图形与内圆的同心度精度可达5μm以内。
本发明授权一种高精度反射式金属码盘的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种高精度反射式金属码盘的制作方法，其特征在于，包括以下步骤： 通过磁控溅射在不锈钢基材表面镀制低反射膜层； 在所述低反射膜层表面进行光刻，形成码盘图案，得到带有码盘图案的不锈钢基材； 在所述带有码盘图案的不锈钢基材的上下表面涂覆光刻胶，干燥，然后放入双面对准曝光机中，所述双面对准曝光机的上下端各使用一张带有码盘外形的掩模版，将上下掩模版与不锈钢基材对准后进行双面曝光，然后取出进行双面显影，在不锈钢基材的上下表面形成码盘外形； 对带有码盘外形的不锈钢基材进行湿法蚀刻后去除光刻胶，得到高精度反射式金属码盘。
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