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龙图腾网获悉江阴市导润光学科技有限公司申请的专利一种红外带通滤光片制造方法及滤光片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116463596B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310234048.8，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种红外带通滤光片制造方法及滤光片是由刘贝设计研发完成，并于2023-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种红外带通滤光片制造方法及滤光片在说明书摘要公布了：本发明公开了一种红外带通滤光片制造方法及滤光片，采用磁控溅射镀膜技术分别将前表面膜和后表面膜镀制于基材的前、后表面，所述前表面膜和后表面膜均包括多层膜，使用高、低折射率材料分层镀制；镀膜原材料包括基材、靶材、溅射气体、反应气体等。所述高折射率材料包括硅‑氢材料，所述前表面膜使用法布里‑珀罗干涉型膜系,后表面膜使用长波通干涉截止膜系；通过将高折射率Si‑H材料与低折射率SiO2材料配合分层镀制在基材上，可以获得较好的低角度偏移、带通与截止特性，同时也保证了滤光片的整体性能稳定性和使用寿命。

本发明授权一种红外带通滤光片制造方法及滤光片在权利要求书中公布了：1.一种红外带通滤光片制造方法，所述滤光片包括基材、前表面膜、后表面膜，其特征在于，采用磁控溅射镀膜工艺分别将前表面膜和后表面膜镀制于基材的前、后表面，所述前表面膜和后表面膜均包括多层膜，使用高、低折射率材料分层镀制；镀膜原材料包括基材、靶材、溅射气体、反应气体； 所述高折射率材料包括硅-氢材料，采用磁控溅射技术制备所述硅-氢材料薄膜,在溅射硅靶过程中充入氢气,通过调节氢气流量，调节材料的折射率和吸收率,所述氢气流量大于等于55sccm小于等于65sccm；所述低折射率材料包括二氧化硅；采用磁控溅射技术制备所述二氧化硅薄膜,在溅射硅靶过程中充入氧气,通过调节氧气流量，调节材料的折射率和吸收率,所述氧气流量大于等于75sccm小于等于90sccm； 所述前表面膜使用法布里-珀罗干涉型膜系,后表面膜使用长波通干涉截止膜系； 所述前表面膜结构形式包括:Sub|1.044540H0.093396L0.922645H0.654574L0.565879H0.501420L0.747677H0.176005L0.920630H0.645771L2.166552H0.899623L0.800797H0.735488L2.175355H0.858398L1.141885H0.867564L2.141545H0.754413L0.854296H1.145678L2.118987H0.497954L1.215847H1.473075L1.713247H0.367144L|Air,所述后表面膜结构形式包括：Sub|2HL8HLHL8HLHL8HLHL8HLHL|Air，其中,H、L分别为高、低折射率材料,Sub为基底，Air为空气,s为周期数,HLs表示共s层HL叠加，H2表示2层高折射率材料叠加。

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